[實用新型]蒸發源裝置、成膜裝置以及電子設備的制造裝置

有效

• 申請號: 201821774000.7
• 申請日: 2018-10-30
• 公開（公告）號: CN209508394U
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 田村博之
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;H01L51/56
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張寶榮

1.一種蒸發源裝置，包括配置在用于收容蒸鍍材料的坩堝的外側，并用于對所述坩堝進行加熱的加熱部，

其特征在于，

所述加熱部具有熱輻射面，用于向所述坩堝輻射熱量，所述熱輻射面的至少一部分與所述坩堝的外壁面的至少一部分相向設置，且所述熱輻射面的形狀和與之相向的坩堝外壁面的形狀一致。

2.根據權利要求1所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述加熱部包括板狀部件，所述熱輻射面為所述板狀部件的一個側面。

3.根據權利要求2所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述加熱部包括熱源部件，所述熱源部件設置在所述板狀部件的背離所述坩堝的一側或者設置在所述板狀部件的內部。

4.根據權利要求3所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述熱源部件包括迂回排布的線狀熱源。

5.根據權利要求4所述的蒸發源裝置，其特征在于，

在所述線狀熱源中，在相鄰部分之間配置有所述板狀部件的一部分。

6.根據權利要求4所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述板狀部件的背離所述坩堝的一側設有溝槽，所述線狀熱源設置在所述溝槽中。

7.根據權利要求6所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述溝槽的深度大于或等于所述線狀熱源的直徑。

8.根據權利要求1所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述蒸發源裝置還具有坩堝，所述坩堝的上表面設有多個用于噴出蒸鍍材料的噴嘴。

9.根據權利要求8所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述多個噴嘴被設置成垂直于所述坩堝的上表面。

10.根據權利要求8所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述多個噴嘴被設置成至少最外側的所述噴嘴朝向外側傾斜。

11.根據權利要求10所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述多個噴嘴被設置成越趨向中央其傾斜度越小。

12.根據權利要求10所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述多個噴嘴被設置成靠向中央的所述噴嘴垂直于所述坩堝的上表面或與朝向外側傾斜相反地朝向內側傾斜。

13.根據權利要求1-12中任一項所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述熱輻射面的至少一部分設有黑色涂層或噴鍍有黑色材料。

14.根據權利要求1-12中任一項所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述熱輻射面的至少一部分為粗糙面。

15.根據權利要求1-12中任一項所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述熱輻射面的至少一部分由高熱放射率材料形成。

16.根據權利要求15所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述高熱放射率材料為陶瓷或不銹鋼。

17.根據權利要求1-12中任一項所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述加熱部包括底部加熱部和側部加熱部，分別用于對所述坩堝的底壁和側壁進行加熱。

18.根據權利要求17所述的蒸發源裝置，其特征在于，

所述底部加熱部設有貫通孔，用于支承所述坩堝的支承部件穿過所述貫通孔。