[實用新型]一種UV納米光刻機設備

有效

• 申請號: 201821764905.6
• 申請日: 2018-10-25
• 公開（公告）號: CN209103102U
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 鄭躍勇;劉斌
• 申請（專利權）人: 寧波微迅新材料科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 寧波市鄞州甬致專利代理事務所(普通合伙) 33228
• 代理人: 李迎春

本實用新型公開了一種UV納米光刻機設備，包括光源、聚光透鏡組、遮光鏡、聚光透鏡、第一折射鏡、凹面反射鏡及工作平臺，所述聚光透鏡組前還設有濾光鏡和濾波器，所述聚光透鏡組為多組鷹眼聚光鏡，所述濾光鏡、濾波器、鷹眼聚光鏡、遮光鏡、聚光透鏡位于同一軸線上，且與所述第一折射鏡對應，所述第一折射鏡與一側上方的凹面反射鏡對應，所述凹面反射鏡與其下方的工作平臺對應。本實用新型通過加設濾光鏡和濾波器，對光線進行處理，是是光刻時，只進行一種顏色且按特定方向進行光刻，其光刻效果更好。

技術領域

本實用新型涉及半導體技術中的微細加工領域，特別涉及一種UV納米光刻機設備。

背景技術

光刻機是用于在晶片、印刷電路板、掩膜版、光學玻璃等襯底材料上印刷構圖的設備。光刻的意思是用光來制作一個圖形，在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上，再將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上。在現有技術中，光刻機對于光的只是單單的通過匯聚來進行光刻，對其光源沒有進行處理，其光源存在多方向和多顏色，對光刻的精度有一定的影響。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是：提供一種精度高，能夠更好的刪選出特定需要光源的UV納米光刻機設備。

本實用新型解決上述問題所采用的技術方案為：一種UV納米光刻機設備，包括光源、聚光透鏡組、遮光鏡、聚光透鏡、第一折射鏡、凹面反射鏡及工作平臺，所述聚光透鏡組前還設有濾光鏡和濾波器，所述聚光透鏡組為多組鷹眼聚光鏡，所述濾光鏡、濾波器、鷹眼聚光鏡、遮光鏡、聚光透鏡位于同一軸線上，且與所述第一折射鏡對應，所述第一折射鏡與一側上方的凹面反射鏡對應，所述凹面反射鏡與其下方的工作平臺對應。

優選的，所述光源為由激光發射器發出的光源，所述激光發射器前設有一能量控制器，所述能量控制器前設有一快門。這樣，產生的光源能量更佳的集中，同時還能通過能量控制器控制其光源能量的大小。

優選的，所述光源通過激光發射器發出，經所述能量控制器和所述快門，再通過一第二折射鏡照射進所述濾光鏡。這樣，通過第二折射鏡來改變光源的傳播路線，可以減小整個裝置的橫向空間。

優選的，所述聚光透鏡為凹透鏡或凸透鏡。

優選的，所述凹透鏡到所述第一折射鏡的距離為所述凹透鏡焦點的3倍。

優選的，所述凹面反射鏡的凹面處通過光學鍍膜設有多層掩膜板。

優選的，所述掩膜板為100層。

優選的，所述凹面反射鏡的直徑為800mm。

與現有技術相比，本實用新型的優點在于：在對光源的選擇中，選擇激光發射器能使光源更佳的集中，且足夠強，再通過能量控制器和快門能進一步的對光線進行調整，更具有針對性；在聚光透鏡組的前面加裝了濾光鏡和濾波器，能夠刪選出特定方向的光線和特定顏色的光，可以根據整個UV納米光刻機設備需求來進行選擇，更具有針對性；加大凹面反射鏡的直徑，能讓光線更好的折射到工作平臺上。

附圖說明

圖1本實用新型結構示意圖。

圖中標號說明：1、激光發射器，2、能量控制器，3、快門，4、第二折射鏡， 5、濾光鏡，6、濾波器，7、鷹眼聚光鏡，8、遮光鏡，9、凹透鏡，10、第一折射鏡，11、凹面反射鏡，12、工作平臺。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的實施例作進一步描述。

如圖1所示，本實施例涉及一種UV納米光刻機設備，包括光源、聚光透鏡組、遮光鏡8、聚光透鏡、第一折射鏡10、凹面反射鏡11及工作平臺12。