[實用新型]高頻濺射裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821752980.0
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN209194044U
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發(fā)明（設計）人: 徐繼偉;鄭亮;余曉榮
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇特麗亮鍍膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京奧文知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11534
• 代理人: 張文;苗麗娟

1.一種高頻濺射裝置，為通過在真空中向靶材施加高頻電位，以對襯底的一面進行成膜處理的裝置，其特征在于，所述裝置包括：濺射室(1)、靶材(2)、高頻電極(3)、高頻振蕩器(4)、直流電源(5)、襯底(6)、襯底支座(7)和充氣系統(tǒng)(8)；

所述濺射室(1)用于為所述襯底(6)的成膜處理提供真空環(huán)境；

所述靶材(2)設置在所述濺射室(1)內(nèi)的上部，所述靶材(2)背面與所述高頻電極(3)可導電地固定連接，所述高頻電極(3)通過絕緣材料固定安裝在所述濺射室(1)的上端；

所述高頻振蕩器(4)為可調(diào)式振蕩器，所述高頻振蕩器(4)的輸入端連接所述直流電源(5)，輸出端連接所述高頻電極(3)；

所述襯底(6)設置在所述濺射室(1)內(nèi)的下部，且與所述靶材(2)正面正對，所述襯底(6)固定安裝在所述襯底支座(7)上，所述襯底支座(7)可轉(zhuǎn)動地安裝在所述濺射室(1)的下端；

所述充氣系統(tǒng)(8)與所述濺射室(1)連通，用于向所述濺射室(1)提供濺射氣體和反應氣體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻濺射裝置，其特征在于，所述靶材(2)背面采用金屬化處理，所述靶材(2)通過焊接方式或?qū)щ娔z粘結(jié)方式與所述高頻電極(3)連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高頻濺射裝置，其特征在于，所述高頻電極(3)采用無氧銅制作，且中間位置設置有通道，所述通道用于通水冷卻，所述高頻電極(3)外層采用聚四氟乙烯套絕緣。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高頻濺射裝置，其特征在于，所述高頻振蕩器(4)內(nèi)設置有阻抗匹配網(wǎng)絡，所述高頻振蕩器(4)采用雙調(diào)諧變壓器耦合輸出方式。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的高頻濺射裝置，其特征在于，所述襯底支座(7)采用不銹鋼制作，且中間位置設置有用于通水冷卻的冷卻通道。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高頻濺射裝置，其特征在于，所述裝置還包括旋轉(zhuǎn)機構(gòu)(9)，所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)(9)連接在所述襯底支座(7)下端，用于帶動所述襯底支座(7)及其上安裝的所述襯底(6)轉(zhuǎn)動。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的高頻濺射裝置，其特征在于，所述充氣系統(tǒng)(8)包括充氣閥(81)、氣體純化裝置(82)和氣罐(83)；

所述充氣閥(81)一端與所述濺射室(1)連通，另一端與所述氣體純化裝置(82)連通，用于控制所述濺射室(1)內(nèi)的氣體量；

所述氣體純化裝置(82)一端與所述充氣閥(81)連通，另一端與所述氣罐(83)連通；

所述氣罐(83)一端與所述氣體純化裝置(82)連通，另一端連通氣源。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高頻濺射裝置，其特征在于，所述氣罐(83)包括第一氣罐、第二氣罐和混合氣罐；

所述第一氣罐用于容納所述濺射氣體；

所述第二氣罐用于容納所述反應氣體；

所述混合氣罐用于接收所述第一氣罐和所述第二氣罐排出的所述濺射氣體及所述反應氣體，以形成混合氣體。