[實用新型]一種可提升氧化爐爐口硅片氧化膜厚均勻性的裝置

有效

• 申請號: 201821729265.5
• 申請日: 2018-10-23
• 公開（公告）號: CN209150054U
• 公開（公告）日: 2019-07-23
• 發明（設計）人: 田杰成;陳益民
• 申請（專利權）人: 湖南艾科威智能裝備有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 長沙心智力知識產權代理事務所(普通合伙) 43233
• 代理人: 謝如意

1.一種可提升氧化爐爐口硅片氧化膜厚均勻性的裝置，包括石英爐門(1)和連接著石英爐門(1)用于硅片氧化的石英管(2)，其特征在于：位于所述石英管(2)管口位置分別設有石英管測壓口(4)和補氣進氣口(5)，所述石英管測壓口(4)和補氣進氣口(5)之間連接有進量控制系統(6)；

所述進量控制系統(6)包括壓力控制儀(7)和流量控制閥(8)，所述石英管測壓口(4)實時監測氧化爐反應中石英管(2)管口的壓力，并通過所述壓力控制儀(7)結合流量控制閥(8)對所述補氣進氣口(5)補氣進氣量進行實時控制。

2.根據權利要求1所述的一種可提升氧化爐爐口硅片氧化膜厚均勻性的裝置，其特征在于：所述石英管(2)的尾部設有提供反應氣體的工藝氣體進氣管(3)，在所述石英管(2)管口附近設有廢氣排氣管(9)。

3.根據權利要求1所述的一種可提升氧化爐爐口硅片氧化膜厚均勻性的裝置，其特征在于：所述石英管測壓口(4)和補氣進氣口(5)分別連接著壓力傳感器(10)和補氣管路。

4.根據權利要求1所述的一種可提升氧化爐爐口硅片氧化膜厚均勻性的裝置，其特征在于：所述補氣進氣口(5)補充的氣體為氮氣。

5.根據權利要求1所述的一種可提升氧化爐爐口硅片氧化膜厚均勻性的裝置，其特征在于：所述流量控制閥(8)采用質量流量控制器。