[實用新型]EDI窄流道低電阻水室結構有效
| 申請號： | 201821714031.3 | 申請日： | 2018-10-23 |
| 公開（公告）號： | CN209065490U | 公開（公告）日： | 2019-07-05 |
| 發明（設計）人： | 何健;樂平;肖文俊 | 申請（專利權）人： | 上海緣脈環境科技有限公司 |
| 主分類號： | C02F1/469 | 分類號： | C02F1/469 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知識產權代理有限公司 31227 | 代理人： | 李慶 |
| 地址： | 200000 上海市松江*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濃水室 低電阻 窄流道 水室 水室結構 本實用新型 淡水室 離子遷移 密封貼合 水室內壁 體積小 出水 分隔 外圍 保證 | ||
1.一種EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，包括一水室和一濃水室，所述濃水室沿所述水室的長度方向將所述水室分隔形成兩淡水室，且所述濃水室的外圍與所述水室內壁密封貼合固定，所述淡水室的厚度大于所述濃水室的厚度，所述濃水室的厚度為1.8～2.2mm。
2.根據權利要求1所述的EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，所述淡水室的厚度為6～14mm。
3.根據權利要求2所述的EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，所述濃水室的厚度為2mm。
4.根據權利要求1～3任一項所述的EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，所述濃水室由至少一EDI密封墊構成；所述EDI密封墊包括一面板、一工作區、至少一進水口和至少一出水口，所述工作區固定于所述面板的中部，所述進水口和所述出水口與所述工作區之間分別形成一導流槽。
5.根據權利要求4所述的EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，所述工作區的外表面覆蓋有一納米導電材料層。
6.根據權利要求5所述的EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，所述EDI密封墊還包括兩防泄漏網，所述防泄漏網分別設置于兩所述導流槽內并位于所述工作區與所述進水口之間或所述工作區與所述出水口之間。
7.根據權利要求6所述的EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，所述進水口和所述出水口分別設置于所述工作區上下兩端的不同側。
8.根據權利要求7所述的EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，所述工作區呈金屬網狀結構，所述面板中部形成通槽，所述金屬網狀結構固定于所述通槽內。
9.根據權利要求8所述的EDI窄流道低電阻水室結構，其特征在于，所述面板采用橡膠面板。
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