[實用新型]一種輕減裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821710973.4
• 申請日: 2018-10-22
• 公開（公告）號: CN209169117U
• 公開（公告）日: 2019-07-26
• 發(fā)明（設計）人: 馬超;王時良;任豪杰
• 申請（專利權(quán)）人: 旺天凱精密機器（昆山）有限公司
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677
• 代理公司: 蘇州中合知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 32266
• 代理人: 趙曉芳

本實用新型提供一種輕減裝置，輕減裝置包括：底座，底座上形成有水平面；轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動地設在底座上且與水平面平行；左立柱，左立柱的下端可移動地設在底座上且垂直于水平面；右立柱，右立柱的下端可移動地設在底座上且垂直于水平面，右立柱的軸線與左立柱的軸線共同所在的平面與轉(zhuǎn)軸平行，左立柱與右立柱之間的間距可調(diào)節(jié)；左軸承，左軸承的內(nèi)圈套設在左立柱上；右軸承，右軸承的內(nèi)圈套設在右立柱上，左軸承與右軸承的形狀尺寸相同且位于相同的高度。根據(jù)本實用新型的輕減裝置，能夠精確地對不同尺寸晶圓料盒進行限位，使得晶圓料盒能夠穩(wěn)定移動，減小偏差，保證晶圓上料的精確度，減少因料盒位置偏差給后續(xù)生產(chǎn)帶來的不便。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及機械制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種輕減裝置。

背景技術(shù)

生產(chǎn)中常需要傳輸上料裝置進行上料，不同的上料需求對上料裝置的精確度要求不同，現(xiàn)有的一些上料裝置雖然能夠滿足上料要求，但是由于精確度地，影響生產(chǎn)加工產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量和效率，可能由于上料不當影響后續(xù)的生產(chǎn)過程。比如在半導體行業(yè)，半導體制造已經(jīng)成為重要產(chǎn)業(yè)，在半導體加工過程中晶圓是重要的半導體材料，在半導體的加工生產(chǎn)過程中，需要將晶圓放置于晶圓料盒或晶圓料箱中，由于晶圓料盒或晶圓料箱的尺寸大小不同，現(xiàn)有的晶圓料盒的限位裝置尺寸固定，難以同時適用于不同尺寸的晶圓料盒，在晶圓料盒向前移動的過程中，易導致料盒的位置出現(xiàn)偏差，影響晶圓的上料，影響后續(xù)生產(chǎn)工序，降低生產(chǎn)效率，給生產(chǎn)帶來不便。

實用新型內(nèi)容

有鑒于此，本實用新型提供一種輕減裝置。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用以下技術(shù)方案：

根據(jù)本實用新型實施例的輕減裝置包括：

底座，所述底座上形成有水平面；

轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動地設在所述底座上且與所述水平面平行；

左立柱，所述左立柱的下端可移動地設在所述底座上且垂直于所述水平面；

右立柱，所述右立柱的下端可移動地設在所述底座上且垂直于所述水平面，所述右立柱的軸線與所述左立柱的軸線共同所在的平面與所述轉(zhuǎn)軸平行，所述左立柱與所述右立柱之間的間距可調(diào)節(jié)；

左軸承，所述左軸承的內(nèi)圈套設在所述左立柱上；

右軸承，所述右軸承的內(nèi)圈套設在所述右立柱上，所述左軸承與所述右軸承的形狀尺寸相同且位于相同的高度。

進一步地，所述轉(zhuǎn)軸為多個，多個所述轉(zhuǎn)軸沿所述水平面的前后方向間隔開設在所述底座上。

進一步地，所述轉(zhuǎn)軸在豎直方向上的高度小于所述左軸承與所述右軸承在豎直方向上的高度。

進一步地，所述輕減裝置還包括：

距離傳感器，所述距離傳感器用于檢測所述左軸承與所述右軸承之間的距離并生成發(fā)出相應的距離信號；

報警器，所述報警器能夠接收到所述距離信號，所述報警器接收到所述距離信號后開始報警或停止報警。

進一步地，所述距離傳感器構(gòu)成為當所述左軸承與所述右軸承之間的距離大于距離閾值時所述距離傳感器生成發(fā)出能夠報警的距離信號，所述報警器接收到所述能夠報警的距離信號后開始報警。

進一步地，所述輕減裝置還包括：

驅(qū)動電機，所述驅(qū)動電機與所述轉(zhuǎn)軸相連，以驅(qū)動所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。

進一步地，所述輕減裝置還包括：

控制器，所述控制器能夠接收到所述距離信號，所述控制器接收到所述距離信號后控制所述驅(qū)動電機驅(qū)動或停止驅(qū)動所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。