[實用新型]高性能黑色低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 201821698796.2
• 申請日: 2018-10-18
• 公開（公告）號: CN209292227U
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 董清世;陳大偉;張福清
• 申請（專利權）人: 信義玻璃（天津）有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 張全文

本實用新型屬于鍍膜玻璃技術領域，尤其涉及一種高性能黑色低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和低輻射鍍膜，低輻射鍍膜包括基層電介質層、基層阻擋層、中間電介質層、功能銀層、上層阻擋層和上層電介質層，基層阻擋層疊層設于基層電介質層上，中間電介質層疊層設于基層阻擋層上，功能銀層疊層設于中間電介質層上，上層阻擋層疊層設于功能銀層上，上層電介質層疊層設于上層阻擋層上，基層電介質層與玻璃基板粘接。本實用新型的高性能黑色低輻射鍍膜玻璃，通過特殊的低輻射鍍膜的設置，可以確保低輻射鍍膜玻璃具有輻射率低，遮陽系數低，光學性能穩定、色彩沉穩且容易調節的優點，整個低輻射鍍膜玻璃無論性能還是外觀都非常實用，適用范圍廣。

技術領域

本實用新型屬于鍍膜玻璃技術領域，尤其涉及一種高性能黑色低輻射鍍膜玻璃。

背景技術

低輻射玻璃，又稱Low-E玻璃，是在玻璃表面鍍制包括銀層在內的多層金屬或其它化合物組成的膜系產品。由于銀層具有低輻射的特性，低輻射玻璃對可見光有較高的透射率，對紅外線有很高的反射率，具有良好的隔熱性能。

采用真空磁控濺射法生產的單銀低輻射鍍膜玻璃的膜層結構一般為：玻璃/基層電介質層/基層阻擋層/功能銀層/第二阻擋層/上層電介質層。電介質層一般為金屬的氧化物或金屬的氮化物,或為非金屬的氧化物或非金屬的氮化物，如SiZrO_x、TiO₂、ZnSnO_x、SnO₂、ZnO、SiO₂、Ta₂O₅、SiN_xO_y、BiO₂、Al₂O₃、Nb₂O₅、Si₃N₄、AZO等。基層阻擋層、第二阻擋層一般為金屬或金屬氧化(氮化)物，也可以是合金或合金氧化(氮化)物，如Ti、NiCr或NiCrO_x、NiCrN_x等。

但是在傳統的單銀低輻射膜的開發及生產中，要么反射率高而透過率低，要么透過率高而反射率低，難以達到既能保證很低的透過率，又兼顧較低的反射，同時顏色以紅、綠、黃、藍、灰為主，很少有其他顏色出現。在選用低反低透或者更特殊顏色的低輻射鍍膜產品時，一般都采用雙銀或者三銀低輻射鍍膜玻璃。對于實際應用中需要選擇使用較低反射率同時兼顧較低透過率鍍膜玻璃的成本至少是單銀低輻射鍍膜玻璃的兩倍，三銀低輻射鍍膜玻璃的成本更高，這種做法會大大增加使用成本。雙銀或三銀低輻射鍍膜玻璃的實際價格遠高于普通的單銀低輻射鍍膜玻璃，這就限制了此類低反低透特殊顏色的低輻射鍍膜產品的使用范圍，不利于低輻射鍍膜產品的推廣；另外，雙銀或三銀低輻射鍍膜玻璃在生產過程中不同批次的，不同廠家的產品，難以做到顏色的一致性，致使在生產使用過程中無形中增加加工成本或者出現色差類事故報廢。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種高性能黑色低輻射鍍膜玻璃，旨在解決現有技術中的低輻射玻璃存在低輻射反射與透過協調性低以及顏色多樣性差的技術問題。

為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：一種高性能黑色低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和低輻射鍍膜，所述低輻射鍍膜包括基層電介質層、基層阻擋層、中間電介質層、功能銀層、上層阻擋層和上層電介質層，所述基層阻擋層疊層設置于所述基層電介質層上，所述中間電介質層疊層設置于所述基層阻擋層上，所述功能銀層疊層設置于所述中間電介質層上，所述上層阻擋層疊層設置于所述功能銀層上，所述上層電介質層疊層設置于所述上層阻擋層上，所述基層電介質層與所述玻璃基板粘接。

優選地，所述玻璃基板為白玻基板或超白原片基板。

優選地，所述基層電介質層為非金屬氮化物層或非金屬氧化物層，所述基層電介質層的厚度為25nm～30nm。

優選地，所述中間電介質層為金屬氧化物層，所述中間電介質層的厚度為50nm～70nm。