[實用新型]一種勻氣冷卻裝置用內部水路檢測機構

有效

• 申請號: 201821666184.5
• 申請日: 2018-10-15
• 公開（公告）號: CN209178518U
• 公開（公告）日: 2019-07-30
• 發明（設計）人: 游利
• 申請（專利權）人: 靖江先鋒半導體科技有限公司
• 主分類號: C30B25/14
• 分類號: C30B25/14;C30B25/16;G01J5/00
• 代理公司: 靖江市靖泰專利事務所 32219
• 代理人: 陸平

一種勻氣冷卻裝置用內部水路檢測機構，包括勻氣冷卻裝置，勻氣冷卻裝置的內部設置有若干冷卻水路，勻氣冷卻裝置邊緣設置有進水柱和出水柱，進水柱與出水柱對稱設置，所述的勻氣冷卻裝置設置在基座上，基座內部設置有加熱模塊，并通過導線與溫控模塊相連接，溫控模塊設置在基座的外部下方；所述的基座設置在其下方的支撐工作臺上，水冷裝置設置在支撐工作臺的左側或右側，水冷裝置通過連接水管與勻氣冷卻裝置相連接；所述的勻氣冷卻裝置的上方設置有熱成像儀；本實用新型結構簡單，穩定性好，易于操作，適用于在零件發給客戶前進行檢測，可以很容易檢測內部的水路是否有堵塞，便于及時維修；有效保證了出貨產品的合格率；大大提高了生產效率。

技術領域

本實用新型涉及水路檢測的領域，尤其涉及一種勻氣冷卻裝置用內部水路檢測機構。

背景技術

MOCVD金屬有機化學氣相沉積法將II 或III 族金屬有機化合物的氣體，與含IV或V 族元素的氫化物氣體引入MOCVD 設備的反應腔內，使兩者的混合氣體送到放置于反應腔內底部基座上的基片表面時，能夠在基片表面發生熱分解反應，從外延生長形成化合物單晶薄膜。MOCVD勻氣及冷卻裝置使輸送的有機金屬氣體與氫化物氣體在基座上及在各基片上都能夠均勻分布，工藝時需要使用冷卻劑在勻氣及冷卻裝置中流動，使進氣裝置的溫度保持在適當水平，保證MOCVD設備長期穩定工作。由于MOCVD勻氣及冷卻裝置是使用真空釬焊焊接起來，內部有很多冷卻水路，由于釬焊料的流動性太好，焊接時有可能造成局部水路堵塞，且常規檢測很難檢查出水路是否有堵塞，在客戶端使用會造成局部氣體溫度無法冷卻，導致工藝不穩定，嚴重時水路附近開裂，嚴重影響生產。

發明內容

本實用新型目的是提供一種勻氣冷卻裝置用內部水路檢測機構，結構簡單，操作方便，保證了出貨前水路通暢，增加了產品合格率，解決了以上技術問題。

為了實現上述技術目的，達到上述的技術要求，本實用新型所采用的技術方案是：一種勻氣冷卻裝置用內部水路檢測機構，包括勻氣冷卻裝置，勻氣冷卻裝置的內部設置有若干冷卻水路，勻氣冷卻裝置邊緣設置有進水柱和出水柱，進水柱與出水柱對稱設置，其特征在于：所述的勻氣冷卻裝置設置在基座上，基座內部設置有加熱模塊，并通過導線與溫控模塊相連接，溫控模塊設置在基座的外部下方；所述的基座設置在其下方的支撐工作臺上，水冷裝置設置在支撐工作臺的左側或右側，水冷裝置通過連接水管與勻氣冷卻裝置相連接；所述的勻氣冷卻裝置的上方設置有熱成像儀。

優選的：所述的連接水管為進水管和出水管，進水管與四個進水柱相連接，出水管與四個出水柱相連接，形成循環水回路。

優選的：所述的支撐工作臺設置為內部中空的框架式長方體。

優選的：所述的熱成像儀在基座溫度達到100℃時開始成像。

優選的：所述的基座設置為圓形。

本實用新型的有益效果；一種勻氣冷卻裝置用內部水路檢測機構，與傳統結構相比：勻氣冷卻裝置設置在基座上，基座內部設置有加熱模塊，并通過導線與溫控模塊相連接，溫控模塊設置在基座的外部下方；所述的基座設置在其下方的支撐工作臺上，水冷裝置設置在支撐工作臺的左側或右側，水冷裝置通過連接水管與勻氣冷卻裝置相連接；勻氣冷卻裝置的上方設置有熱成像儀；本實用新型結構簡單，穩定性好，易于操作，適用于在零件發給客戶前進行檢測，可以很容易檢測內部的水路是否有堵塞，便于及時維修；有效保證了出貨產品的合格率；大大提高了生產效率。

附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖；

在圖中：1.勻氣冷卻裝置；2.基座；3.支撐工作臺；4.水冷裝置；5.溫控模塊；6.熱成像儀；7.進水管；8.出水管；9.進水柱；10.出水柱。

具體實施方式

為了使本實用新型的發明目的、技術方案及其有益技術效果更加清晰，以下結合附圖和具體實施方式，對本實用新型進行進一步詳細說明；