[實用新型]晶圓刻蝕設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821664178.6
• 申請日: 2018-10-12
• 公開（公告）號: CN208753278U
• 公開（公告）日: 2019-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉洪浩;張文福;高英哲
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海盈盛知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31294
• 代理人: 孫佳胤;董琳

1.一種晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，包括：

刻蝕腔體；

與所述刻蝕腔體連接的回收槽，用于存儲從所述刻蝕腔體內(nèi)排出的刻蝕液，并循環(huán)輸出至所述刻蝕腔體；

濃度檢測裝置，連接至所述回收槽，用于檢測所述回收槽內(nèi)的刻蝕液濃度；補液管路，連通至所述回收槽，與所述濃度檢測裝置連接，用于當(dāng)所述回收槽內(nèi)的刻蝕液濃度低于一設(shè)定值時，向所述回收槽內(nèi)補充初始刻蝕液，所述初始刻蝕液的濃度大于所述回收槽內(nèi)的刻蝕液濃度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，還包括：設(shè)置于所述刻蝕腔體與所述回收槽之間的儲液槽，所述儲液槽連接所述刻蝕腔體和回收槽，用于存儲刻蝕液，以及向所述刻蝕腔體提供刻蝕液；所述回收槽用于將刻蝕液經(jīng)由所述儲液槽循環(huán)輸出至所述刻蝕腔體。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，還包括：儲液循環(huán)管路，所述儲液循環(huán)管路的兩端均連通至所述儲液槽，用于使所述儲液槽內(nèi)的刻蝕液進行循環(huán)流動。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，還包括：回收循環(huán)管路，所述回收循環(huán)管路的兩端均連通至所述回收槽，用于使所述回收槽內(nèi)的刻蝕液進行循環(huán)流動；所述濃度檢測裝置連接至所述回收循環(huán)管路。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述儲液循環(huán)管路和回收循環(huán)管路分別通過一排液閥門連接至一排液管。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述回收循環(huán)管路上設(shè)置有第一過濾器和第一泵。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述儲液循環(huán)管路上設(shè)置有第二過濾器和第二泵。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述回收槽與刻蝕腔體的連接管路上設(shè)置有一切換開關(guān)，所述切換開關(guān)還連接至一排液管，所述切換開關(guān)用于控制所述回收槽與刻蝕腔體的之間、以及刻蝕腔體與排液管之間的通斷狀態(tài)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述切換開關(guān)為三通閥。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述補液管路上設(shè)置有補液閥門，所述補液閥門與所述濃度檢測裝置連接，根據(jù)所述濃度檢測裝置的檢測值，調(diào)整所述補液閥門的通斷。