[實(shí)用新型]一種超聲波清洗設(shè)備及超聲波清洗系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821658805.5
• 申請日: 2018-10-12
• 公開（公告）號: CN209379568U
• 公開（公告）日: 2019-09-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宋莉;張殿斌;劉南渤
• 申請（專利權(quán)）人: 北京華夏視科技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B13/00;B08B15/04
• 代理公司: 北京華夏正合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11017
• 代理人: 韓登營

本申請涉及超聲波清洗技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種超聲波清洗設(shè)備及超聲波清洗系統(tǒng)。本申請所提供的超聲波清洗設(shè)備，包括位于殼體內(nèi)的真空腔、壓縮腔和超聲波發(fā)生裝置，所述殼體工作端的一側(cè)設(shè)置有與所述壓縮腔連通的噴出口和與所述真空腔連通的吸入口，所述超聲波發(fā)生裝置位于所述壓縮腔內(nèi)部，其末端的除塵頭朝向所述噴出口設(shè)置，所述除塵頭的末端包括并排設(shè)置的多個超聲波發(fā)射端，所述多個超聲波發(fā)射端形成一柵格式結(jié)構(gòu)。本申請所提供的超聲波清洗系統(tǒng)包括并排設(shè)置的多個所述超聲波清洗設(shè)備，該超聲波清洗設(shè)備及超聲波清洗系統(tǒng)加強(qiáng)了超聲波強(qiáng)度的均勻性，增大了超聲波的輻射范圍，提高了清潔效率，還提高了清潔可靠性及徹底性。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及超聲波清洗技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種超聲波清洗設(shè)備及超聲波清洗系統(tǒng)。

背景技術(shù)

隨著電子工業(yè)的迅猛發(fā)展，半導(dǎo)體器件、平板顯示器件和大規(guī)模集成電路等電子設(shè)備的需求量大幅增加，且電子設(shè)備也日趨精密化、細(xì)微化，對清洗電子設(shè)備的精度、可靠性也有了更高的需求。由于污染物微粒的存在是影響電子設(shè)備器件性能、成品率和可靠性的主要因素，尤其在微光機(jī)電系統(tǒng)、半導(dǎo)體芯片制造系統(tǒng)等微納米級電子設(shè)備中尤為明顯，因此關(guān)于提高對微納米級電子設(shè)備的污染物顆粒的清洗精度及可靠性問題的研究也尤為重要。

清洗技術(shù)按清洗方式分為濕式清洗和干式清洗兩種，濕式清洗是以液體為清洗介質(zhì)，干式清洗是以氣體為清洗介質(zhì)。濕式清洗需要使用大量清潔溶劑，清潔溶劑含有大量的化學(xué)添加劑，該使用后的清潔溶劑排出后會對環(huán)境造成污染，并且在沖洗殘留液體介質(zhì)的過程中也很容易在電子設(shè)備表面產(chǎn)生水痕，并且清洗后的電子設(shè)備需要進(jìn)行烘干，成本較高；干式清洗可利用高速氣流、激光、干冰、超聲波等技術(shù)對器件進(jìn)行清潔，相對濕式清洗來說，其無需使用大量的清洗溶劑，減小環(huán)境污染，也無需進(jìn)行烘干，降低費(fèi)用成本。尤其，其中的超聲波干式清洗技術(shù)是利用高速氣流使電子設(shè)備表面形成一層粘膜，超聲波再將吸附在粘膜上的微粒分離出來，真空腔最后將這些微粒抽走清除實(shí)現(xiàn)對電子設(shè)備的高效清潔的，其清潔精度較高。

現(xiàn)有的超聲波干式清洗機(jī)為了能夠更徹底的清潔污染物顆粒，其超聲波除塵器件多采用定焦、定向(一般除塵口有一定傾斜角)的除塵技術(shù)，這對距離確定的電子工件(如平面電子工件)的清潔強(qiáng)度較高，清潔效果較好，但是對于曲面及部分曲面的電子工件(如3D屏幕玻璃基板、2.5D屏幕玻璃基板)的清潔效果并不理想，前述超聲波除塵器件在定焦曲面部位時，很難甚至無法定焦，或者定焦結(jié)果不準(zhǔn)確，導(dǎo)致污染物顆粒懸浮、回旋的運(yùn)動效果差，或者污染物顆粒分離不徹底，從而導(dǎo)致有污染物顆粒殘留，清潔不徹底；同時，由于曲面部分的污染物顆粒回旋運(yùn)動效果差，尤其位于電子工件邊緣的污染物顆粒很難運(yùn)動到其真空腔抽力范圍附近由真空腔抽走，這樣部分即使被分離出來的污染物顆粒也同樣可能無法被抽走清理掉，這進(jìn)一步的導(dǎo)致清潔效果差，清潔不徹底。

實(shí)用新型內(nèi)容

本申請?zhí)峁┝艘环N超聲波清洗設(shè)備及超聲波清洗系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有的超聲波干式清洗設(shè)備清潔可靠性差、清潔不徹底的問題。

本申請的第一方面提供了一種超聲波清洗設(shè)備，包括位于殼體內(nèi)的真空腔、壓縮腔和超聲波發(fā)生裝置，

所述殼體工作端的一側(cè)設(shè)置有與所述壓縮腔連通的噴出口和與所述真空腔連通的吸入口，

所述超聲波發(fā)生裝置位于所述壓縮腔內(nèi)部，其末端的除塵頭朝向所述噴出口設(shè)置，

所述除塵頭的末端包括并排設(shè)置的多個超聲波發(fā)射端，所述多個超聲波發(fā)射端形成一柵格式結(jié)構(gòu)。