[實用新型]一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置

有效

• 申請號: 201821657181.5
• 申請日: 2018-10-12
• 公開（公告）號: CN209069801U
• 公開（公告）日: 2019-07-05
• 發明（設計）人: 謝重;姚朝霞;鮑科良;楊禹晟
• 申請（專利權）人: 謝重;臺州職業技術學院
• 主分類號: G01N15/10
• 分類號: G01N15/10
• 代理公司: 杭州浙科專利事務所(普通合伙) 33213
• 代理人: 楊建龍

1.一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置，其特征在于包括框架體（1）以及設置在框架體（1）上的CCD相機位置調節組件、激光器位置調節組件和拋光組件，CCD相機位置調節組件包括CCD相機托板（4）、與CCD相機托板（4）固定連接的CCD相機（3）、驅動CCD相機托板（4）左右移動的第一驅動機構和驅動CCD相機托板（4）上下移動的第二驅動機構，激光器位置調節組件包括激光器托板（11）、與激光器托板（11）固定連接的激光器（22）和驅動激光器托板（11）前后移動的第三驅動機構。

2.根據權利要求1所述的一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置，其特征在于所述拋光組件包括設置在框架體（1）上的透明支撐板（5）、設置在透明支撐板（5）上的拋光液容器（6）、設置在框架體（1）上的拋光支架（8）、固定連接在拋光支架（8）上的第一電機（9）以及與第一電機（9）的主軸通過第二聯軸器（24）配合連接的拋光盤（7），CCD相機（3）的鏡頭、拋光液容器（6）和拋光盤（7）三者的中心重合。

3.根據權利要求1或2所述的一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置，其特征在于所述第一驅動機構為與框架體（1）旋轉連接的第一絲杠（15），第一絲杠（15）水平設置且與CCD相機托板（4）螺紋連接，第一絲杠（15）的一端設置左右移動微調旋鈕（16）。

4.根據權利要求3所述的一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置，其特征在于所述第二驅動機構為與框架體（1）旋轉連接的第二絲杠（17），第二絲杠（17）豎直設置且與CCD相機托板（4）螺紋連接，第二絲杠（17）的一端設置上下移動微調旋鈕（18）。

5.根據權利要求1或2所述的一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置，其特征在于所述第三驅動機構為與框架體（1）旋轉連接的第三絲杠（12），第三絲杠（12）水平設置且與激光器托板（11）螺紋連接，第三絲杠（12）的一端設置前后移動微調旋鈕（13）。

6.根據權利要求5所述的一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置，其特征在于所述激光器位置調節組件還包括設置在激光器（22）與激光器托板（11）之間的升降機構，升降機構包括第二電機（20）、第四絲杠（23）、折疊板組（21）、激光器支撐板（25），第二電機（20）固定連接在激光器托板（11）上并與第四絲杠（23）通過第一聯軸器配合連接，折疊板組（21）包括兩個鉸接成剪刀形的折疊板，其中一個折疊板的下端與第四絲杠（23）螺紋連接，折疊板組（21）的上端與激光器支撐板（25）鉸接，激光器（22）固定連接在激光器支撐板（25）上。

7.根據權利要求1或2所述的一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置，其特征在于所述框架體（1）的一側設置用于支撐激光器位置調節組件的框架體支架（100）。

8.根據權利要求1或2所述的一種兩相流拋光加工中磨粒的PIV觀測裝置，其特征在于所述框架體（1）的底部設置可調墊腳（19）。