[實用新型]一種燙金機減震底座

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821639805.0
• 申請日: 2018-10-10
• 公開（公告）號: CN208855225U
• 公開（公告）日: 2019-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 沈朱偉
• 申請（專利權(quán)）人: 蒼南縣星宇燙金材料有限公司
• 主分類號: B41F19/06
• 分類號: B41F19/06
• 代理公司: 濟南鼎信專利商標(biāo)代理事務(wù)所(普通合伙) 37245
• 代理人: 劉靜

本實用新型涉及一種燙金機減震底座。包括加工臺和支腳，加工臺內(nèi)設(shè)有空腔，加工臺上表面上等間距的設(shè)有若干吸附槽，吸附槽內(nèi)設(shè)有密閉組件，吸附槽底部設(shè)有與空腔連通的通孔，密閉組件包括密封板、連桿和回位彈簧，連桿一端與密封板固連，另一端伸入通孔內(nèi)并與通孔可活動連接，回位彈簧套裝在連桿上，且回位彈簧一端與密封板相抵，另一端與吸附槽底壁相抵，空腔底部設(shè)有吸氣孔，吸氣孔上連接有吸真空裝置，支腳上設(shè)有減震組件。本實用新型能夠?qū)⒈患庸ぜ皆诩庸づ_上，防止被加工件移動而出現(xiàn)燙金位置不準(zhǔn)確的情況，提高最終的燙金質(zhì)量，另外，還在支腳上設(shè)置減震組件，提高底座的減震緩沖能力，具有結(jié)構(gòu)簡單，方便實用的優(yōu)點。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及減震底座，具體涉及一種燙金機減震底座。

背景技術(shù)

燙金工藝是利用熱壓轉(zhuǎn)移的原理，將電化鋁中的鋁層轉(zhuǎn)印到承印物表面以形成特殊的金屬效果，因燙金使用的主要材料是電化鋁箔，因此燙金也叫電化鋁燙印。電化鋁箔通常由多層材料構(gòu)成，基材常為PE，其次是分離涂層、顏色涂層、金屬涂層（鍍鋁）和膠水涂層。

燙金基本工藝是在壓力狀態(tài)，即電化鋁被燙印版、承印物壓住的狀態(tài)下，電化鋁受熱使其上熱熔性的有機硅樹脂層和膠牯劑熔化，此時受熱熔化的有機硅樹脂粘性變小，而特種熱敏膠粘劑受熱熔化后粘性增加，使得鋁層與電化鋁基膜剝離的同時轉(zhuǎn)印到了承印物上。隨著壓力的卸除，膠粘劑迅速冷卻固化，鋁層牢固地附著在承印物上，完成一個燙印過程。

現(xiàn)有的燙金機在工作的時候，需要將被加工件防止在加工臺上進行燙金，但是由于被加工件與加工臺之間位置不固定，從而導(dǎo)致燙金圖案位置不準(zhǔn)確，影響最后只能怪的燙金質(zhì)量。

實用新型內(nèi)容

為了克服背景技術(shù)的不足，本實用新型提供一種燙金機減震底座。

本實用新型所采用的技術(shù)方案是：一種燙金機減震底座，包括加工臺和支腳，所述的加工臺內(nèi)設(shè)有空腔，加工臺上表面上等間距的設(shè)有若干吸附槽，所述吸附槽內(nèi)設(shè)有密閉組件，吸附槽底部設(shè)有與空腔連通的通孔，所述密閉組件包括密封板、連桿和回位彈簧，所述的連桿一端與密封板固連，另一端伸入通孔內(nèi)并與通孔可活動連接，所述的回位彈簧套裝在連桿上，且回位彈簧一端與密封板相抵，另一端與吸附槽底壁相抵，所述的空腔底部設(shè)有吸氣孔，所述吸氣孔上連接有吸真空裝置，所述的支腳上設(shè)有減震組件。

進一步的，所述的密封板下端面上設(shè)有一層密封橡膠墊，所述密封橡膠墊下端面上設(shè)有凸起的堵頭，所述堵頭與通孔形狀相適應(yīng)。

進一步的，所述的減震組件包括活動柱、中空的筒體、活塞板和壓縮彈簧，所述的活動柱一端與加工臺底端面固定，另一端伸入筒體內(nèi)并與筒體內(nèi)的活塞板固連，所述壓縮彈簧套裝在伸入筒體的活動柱上，所述的筒體通過活塞板分隔成上腔室和下腔室，所述的活塞板上設(shè)有連通上腔室和下腔室的小孔，所述下腔室內(nèi)設(shè)有阻尼介質(zhì)。

進一步的，所述的小孔為直線結(jié)構(gòu)或螺旋結(jié)構(gòu)。

進一步的，所述的阻尼介質(zhì)為水或液油。

進一步的，所述的活動桿與筒體的連接處設(shè)有密封套。

進一步的，所述的筒體底部固定連接有穩(wěn)定腳，所述穩(wěn)定腳包括與筒體底部固定連接支柱以及與支柱一體的圓柱底盤。

本實用新型的有益效果是：由于采取上述技術(shù)方案，本實用新型能夠?qū)⒈患庸ぜ皆诩庸づ_上，防止被加工件移動而出現(xiàn)燙金位置不準(zhǔn)確的情況，提高最終的燙金質(zhì)量，另外，還在支腳上設(shè)置減震組件，提高底座的減震緩沖能力，具有結(jié)構(gòu)簡單，方便實用的優(yōu)點。

附圖說明

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為圖1中A處放大圖。