[實用新型]減緩內應力的圍壩結構

有效

• 申請號: 201821631213.4
• 申請日: 2018-10-09
• 公開（公告）號: CN208923182U
• 公開（公告）日: 2019-05-31
• 發明（設計）人: 單春光;鄒冠生
• 申請（專利權）人: 中山市瑞寶電子科技有限公司
• 主分類號: H01L33/48
• 分類號: H01L33/48
• 代理公司: 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203
• 代理人: 葉玉鳳;徐勛夫

本實用新型公開一種減緩內應力的圍壩結構，包括陶瓷基板，所述陶瓷基板具有上下貫穿的通孔，于該陶瓷基板的正面、反面和通孔中均設置導通的導電線路，所述陶瓷基板正面設有金屬圍壩，該金屬圍壩包圍于導電線路的外周，所述金屬圍壩具有外側壁、頂部、內側壁，于外側壁開設凹槽，使所述金屬圍壩的壩體對應該凹槽的位置變薄。依據力學原理，開槽后金屬圍壩的應力增大，因此開設凹槽后將作用力的匯集點A分散，避免從A點開始剝離，從而保證了支架的使用壽命。

技術領域

本實用新型涉及LED、激光器件、功率器件等相關半導體器件領域技術，尤其是指一種減緩內應力的圍壩結構。

背景技術

對于目前要求氣密性封裝的光器件來說，通常需要在陶瓷基板上設置金屬圍壩，利用金屬圍壩所圍構形成的空間可填充封裝膠水，從而實現更好的氣密性。

如圖1所示，在陶瓷基板的制備過程中，金屬圍壩可以是采用逐層電鍍的方式壘高，形成一定的高度。然而，由于陶瓷基板與金屬圍壩是兩種不同的材質，當金屬圍壩內腔的膠水以及金屬圍壩自身受熱膨脹時，力點集中在A點上，當達到應力的最大值時，易從A點開始在二者之接合面產生剝離（參見圖2），造成支架損壞，氣密性不良。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型針對現有技術存在之缺失，其主要目的是提供一種減緩內應力的圍壩結構，其可以將應力通過開槽分散，不再集中在A點，

從而克服現有技術的不足。

為實現上述目的，本實用新型采用如下之技術方案：

一種減緩內應力的圍壩結構，包括陶瓷基板，所述陶瓷基板具有上下貫穿的通孔，于該陶瓷基板的正面、反面和通孔中均設置導通的導電線路，所述陶瓷基板正面設有金屬圍壩，該金屬圍壩包圍于導電線路的外周，所述金屬圍壩具有外側壁、頂部、內側壁，于外側壁開設凹槽，使所述金屬圍壩的壩體對應該凹槽的位置變薄。

作為一種優選方案，所述凹槽水平布設，環設于外側壁一周，該金屬圍壩開槽后形成上、中、下三部分，其中上、下部分的壩體寬度相同，中間部分的壩體寬度<上、下部分的壩體寬度。

作為一種優選方案，所述凹槽的槽底是直角或導圓角。

作為一種優選方案，所述金屬圍壩為銅圍壩，金屬圍壩的高度為0.05mm-1.5mm。

作為一種優選方案，所述金屬圍壩的內側壁為豎直壁。

作為一種優選方案，所述金屬圍壩的內側壁為斜壁，形成反光斜面。

作為一種優選方案，所述反光斜面的角度a為5 ~90°。

作為一種優選方案，所述屬圍壩的內側壁的上端沿開設有臺階。

本實用新型與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果，具體而言，由上述技術方案可知，其主要是由于在金屬圍壩的外側壁開設凹槽，使所述金屬圍壩的壩體對應該凹槽的位置變薄。依據力學原理，開設凹槽后將作用力的匯集點A分散，避免從A點開始剝離，從而保證了支架的使用壽命。

為更清楚地闡述本實用新型的結構特征和功效，下面結合附圖與具體實施例來對本實用新型進行詳細說明。

附圖說明

圖1是傳統陶瓷支架的結構示意圖。

圖2是傳統陶瓷支架的金屬圍壩從A點開始分裂的示意圖。

圖3是本實用新型之實施例的第一種結構示意圖。

圖4是本實用新型之實施例的第二種結構示意圖。

圖5是本實用新型之實施例的第三種結構示意圖。

圖6是本實用新型之實施例的第四種結構示意圖。