[實(shí)用新型]一種掩膜版的防塵保護(hù)結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821625924.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208937906U | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐文權(quán) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣州仕元光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/64 | 分類號(hào): | G03F1/64 |
| 代理公司: | 廣州德科知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44381 | 代理人: | 萬振雄;林玉旋 |
| 地址: | 510730 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 邊框 掩膜版 保護(hù)膜 支撐面 本實(shí)用新型 防塵保護(hù) 第二面 弧形槽 內(nèi)凹 支撐 加工工藝技術(shù) 半導(dǎo)體器件 空間覆蓋 首尾相連 圖案區(qū)域 形變 晶片 沿邊 平行 復(fù)制 圖案 吸收 | ||
1.一種掩膜版的防塵保護(hù)結(jié)構(gòu),包括掩膜版、保護(hù)膜和用于固定保護(hù)膜的框架,掩膜版上設(shè)有圖案區(qū)域,其特征在于,所述框架由多根首尾相連的邊框構(gòu)成,每根所述邊框包括兩個(gè)相互平行的第一面和第二面,所有所述邊框的所述第一面共面組成所述框架的第一支撐面,所有所述邊框的所述第二面共面組成所述框架的第二支撐面,所述框架的所述第一支撐面支撐在所述掩膜版上,所述保護(hù)膜支撐在所述框架的所述第二支撐面上,所述保護(hù)膜和所述框架圍成的空間覆蓋所述掩膜版的所述圖案區(qū)域,所述邊框的位于所述框架內(nèi)側(cè)的面設(shè)有沿所述邊框長度方向布置的內(nèi)凹的弧形槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版的防塵保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述邊框的位于所述框架外側(cè)的面也設(shè)有沿所述邊框長度方向布置的內(nèi)凹的弧形槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜版的防塵保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述邊框的橫截面為兩側(cè)分別帶有弧形內(nèi)凹缺口的方形面,所述弧形內(nèi)凹缺口即為邊框上的弧形槽的橫截面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版的防塵保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述邊框的橫截面的兩個(gè)所述弧形內(nèi)凹缺口對(duì)稱布置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版的防塵保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述框架為方形框。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版的防塵保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述掩膜版、框架和保護(hù)膜之間為粘合連接。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





