[實用新型]顯示面板及電子設備有效
| 申請號: | 201821612041.6 | 申請日: | 2018-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN208889658U | 公開(公告)日: | 2019-05-21 |
| 發明(設計)人: | 王敏昌;趙心宇;劉登寬 | 申請(專利權)人: | 華為技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L27/15 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 擋光 基板 薄膜晶體管 電子設備 器件陣列 顯示面板 源層 陣列排布 擋光層 顯示層 投影 透光間隙 顯示畫面 依次層疊 紅外線 申請 遮擋 驅動 覆蓋 應用 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括基板和依次層疊在所述基板上的擋光層、器件陣列層及顯示層,所述顯示層能夠在所述器件陣列層的驅動下顯示畫面,所述器件陣列層包括陣列排布的多個薄膜晶體管,各所述薄膜晶體管均包括有源層和柵極,所述有源層位于所述基板與所述柵極之間,所述擋光層包括陣列排布的多個擋光塊,各所述擋光塊均能夠遮擋紅外線,相鄰的任意兩個所述擋光塊之間形成透光間隙,所述多個擋光塊在所述基板上的投影一一對應地覆蓋所述多個薄膜晶體管的所述有源層在所述基板上的投影。
2.如權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述多個擋光塊采用金屬材料。
3.如權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,各所述薄膜晶體管還包括源極和漏極,所述源極和所述漏極均位于所述有源層朝向所述柵極的一側,所述源極和所述漏極分別連接所述有源層的兩端,所述多個擋光塊一一對應地連接至所述多個薄膜晶體管的所述漏極。
4.如權利要求3所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括緩沖層和第一絕緣層,所述緩沖層位于所述基板的一側表面上,所述擋光層位于所述緩沖層遠離所述基板的一側,所述第一絕緣層位于所述緩沖層遠離所述基板的一側且覆蓋所述多個擋光塊,所述第一絕緣層設有多個一一對應的正對所述多個擋光塊的第一孔,所述器件陣列層位于所述第一絕緣層遠離所述緩沖層的一側,各所述薄膜晶體管的所述漏極經所述第一孔連接所述擋光塊。
5.如權利要求4所述的顯示面板,其特征在于,所述器件陣列層還包括柵極絕緣層、第二絕緣層及第三絕緣層,所述柵極絕緣層位于所述柵極與所述有源層之間,所述柵極絕緣層在所述基板上的投影覆蓋所述柵極在所述基板上的投影,所述第二絕緣層位于所述第一絕緣層遠離所述緩沖層的一側,且覆蓋所述有源層、所述柵極及所述柵極絕緣層,所述第二絕緣層設有第二孔、第三孔及第四孔,所述第二孔正對所述有源層的一端,所述第三孔正對所述有源層的另一端,所述第四孔連通所述第一孔,所述源極位于所述第二絕緣層遠離所述第一絕緣層的一側、且通過所述第二孔連接至所述有源層,所述漏極位于所述第二絕緣層遠離所述第一絕緣層的一側,所述漏極通過所述第三孔連接至所述有源層,且通過所述第四孔和所述第一孔連接至所述擋光塊,所述第三絕緣層位于所述第二絕緣層遠離所述第一絕緣層的一側,且覆蓋所述源極和所述漏極,所述第三絕緣層設有正對所述漏極的第六孔,所述顯示層經所述第六孔連接至所述漏極。
6.如權利要求5所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示層包括陣列排布的多個發光單元,各所述發光單元均包括陽極層、有機發光層及陰極層,所述陽極層位于所述有機發光層朝向所述第三絕緣層的一側,所述陰極層位于所述有機發光層背離所述陽極層的一側,所述多個發光單元的所述陽極層一一對應地經所述第六孔連接至所述多個薄膜晶體管的所述漏極。
7.如權利要求6所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括平坦層、鈍化層及偏光層,所述平坦層位于所述第三絕緣層與所述陽極層之間,所述平坦層設有連通所述第六孔的第七孔,所述陽極層經所述第七孔及所述第六孔連接至所述漏極,所述鈍化層位于所述陰極層遠離所述有機發光層的一側,所述偏光層位于所述鈍化層遠離所述陰極層的一側。
8.如權利要求5所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示層包括陣列排布的多個微晶發光二極管,所述多個微晶發光二極管經所述第六孔連接至所述漏極。
9.如權利要求1至8中任意一項所述的顯示面板,其特征在于,單個所述擋光塊在所述基板上的投影面積與對應的單個所述有源層在所述基板上的投影面積的比在1.0至1.2的范圍內。
10.如權利要求1至8中任意一項所述的顯示面板,其特征在于,在同一個所述薄膜晶體管中,所述有源層包括溝道區、兩個輕摻雜區和兩個重摻雜區,兩個所述輕摻雜區分別連接于所述溝道區的相背兩端,兩個所述重摻雜區分別連接于兩個所述輕摻雜區遠離所述溝道區的兩端,所述柵極在所述基板上的投影覆蓋所述溝道區在所述基板上的投影。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華為技術有限公司,未經華為技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821612041.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種線性恒流芯片的新型封裝結構
- 下一篇:顯示面板以及顯示裝置
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





