[實用新型]一種真空吸附輔助臺面

有效

• 申請號: 201821606160.0
• 申請日: 2018-09-30
• 公開（公告）號: CN208826568U
• 公開（公告）日: 2019-05-07
• 發明（設計）人: 陳志;趙鋒;王純強;胡乾
• 申請（專利權）人: 江蘇惟哲新材料有限公司
• 主分類號: B25H1/08
• 分類號: B25H1/08;B25B11/00
• 代理公司: 無錫盛陽專利商標事務所(普通合伙) 32227
• 代理人: 顧朝瑞;楊辰

1.一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：其包括平板基體，所述平板基體上開設有用于固定生瓷的真空固定孔，所述真空固定孔圍合成矩形形狀，所述平板基體上還開設有與生瓷通孔排布相同的真空加強孔，所述平板基體的底面上分別加工有內凹的氣道一和氣道二，所述真空固定孔均位于所述氣道一內，所述真空加強孔均位于所述氣道二內，所述氣道二的深度大于所述氣道一的深度。

2.根據權利要求1所述的一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：所述真空加強孔的直徑大于所述生瓷通孔的直徑。

3.根據權利要求1所述的一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：所述平板基體的頂面上還設有四個圓形凸起，四個所述圓形凸起呈矩形分布并位于所述真空固定孔的外側，所述圓形凸起與所述生瓷上的定位孔一一對應，所述圓形凸起可間隙配合插入所述定位孔。

4.根據權利要求3所述的一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：所述圓形凸起的高度為0.15mm。

5.根據權利要求1所述的一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：所述氣道一呈長條形并在所述平板基體的底面上呈橫縱交叉均勻排列。

6.根據權利要求1所述的一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：所述氣道一的深度為0.5mm，所述氣道二的深度為1.5mm。

7.根據權利要求1所述的一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：所述平板基體的上、下表面的平面度均為0.05mm。

8.根據權利要求1所述的一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：所述平板基體的表面粗糙度為Ra1.6。

9.根據權利要求1所述的一種真空吸附輔助臺面，其特征在于：所述平板基體由軸承鋼制成，硬度為HRC58~HRC62。