[實用新型]一種鏡頭鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201821600847.3
• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN209039568U
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: 盧曉文;吳崎
• 申請（專利權）人: 四川省奮佳科技有限公司
• 主分類號: C23C14/00
• 分類號: C23C14/00;G02B1/113
• 代理公司: 成都睿道專利代理事務所(普通合伙) 51217
• 代理人: 劉沁

本實用新型公開了鏡頭鍍膜技術領域的一種鏡頭鍍膜裝置，包括殼體，所述殼體的前表面安裝有控制箱，所述控制箱的前表面從上導線依次安裝有報警器、鎖緊按鈕和啟動按鈕，所述殼體的左側安裝有第一儲料箱，所述第一儲料箱的底部通過管道連接第一抽液泵，所述殼體的右側安裝有第二儲料箱，所述第二儲料箱的底部通過管道連接有第二抽液泵，所述殼體的頂部插接有箱蓋，所述箱蓋的底部四周均連接有銜鐵，所述銜鐵插接在殼體的頂部，本實用新型能夠同時對鏡頭進行鍍膜和鍍保護膜，不需將鏡頭取出后再進行鍍保護膜的操作，提高了鏡頭的生產效率，且避免鏡頭的二次污染，提高鏡頭的鍍膜質量。

技術領域

本實用新型涉及鏡頭鍍膜技術領域，具體為一種鏡頭鍍膜裝置。

背景技術

用于光學的鍍膜全稱“增透膜”，它通過減少光在折射界面的反射而增加光線的透過率。在復雜的光學系統中，它也可以減少系統中的散射光。鏡頭是指電影攝影機、放映機用以生成影像的光學部件，鏡頭在使用過程中對光線的透過率要求比較高，所以大多數的鏡頭都經過鍍膜處理，以便提高鏡頭的光線的透過率，現有的鏡頭鍍膜多數采用真空沉積的方式進行鍍膜，在高真空的容器中、將欲沉積的材料加熱直至汽化升華、并使此氣體附著于放置在附近的基板表面上、形成一層薄膜。沉積材料光學上主要使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物，為了提高鏡頭的使用壽命，在對鏡頭進行鍍膜的過程中還會在鏡頭的鍍膜上在增加一層防氧化膜，現有的鏡頭的防氧化膜都是在鏡頭鍍膜后，將鏡頭取出后再對其進行防氧化膜的鍍膜，嚴重影響了鏡頭的生產效率，并且在鏡頭取出過程中，鏡頭會與空氣接觸，造成了鏡頭的二次污染，嚴重影響了鏡頭的鍍膜質量。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種鏡頭鍍膜裝置，以解決上述背景技術中提出的現有的鏡頭鍍膜多數采用真空沉積的方式進行鍍膜，在高真空的容器中、將欲沉積的材料加熱直至汽化升華、并使此氣體附著于放置在附近的基板表面上、形成一層薄膜。沉積材料光學上主要使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物，為了提高鏡頭的使用壽命，在對鏡頭進行鍍膜的過程中還會在鏡頭的鍍膜上在增加一層防氧化膜，現有的鏡頭的防氧化膜都是在鏡頭鍍膜后，將鏡頭取出后再對其進行防氧化膜的鍍膜，嚴重影響了鏡頭的生產效率，并且在鏡頭取出過程中，鏡頭會與空氣接觸，造成了鏡頭的二次污染，嚴重影響了鏡頭的鍍膜質量問題。