[實用新型]一種制備高質量金剛石的氣體循環系統有效
| 申請號: | 201821600119.2 | 申請日: | 2018-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN208869656U | 公開(公告)日: | 2019-05-17 |
| 發明(設計)人: | 李成明;安康;陳良賢;賈鑫;魏俊俊;張建軍;劉金龍 | 申請(專利權)人: | 北京科技大學 |
| 主分類號: | C23C16/27 | 分類號: | C23C16/27;C23C16/503;C23C16/448 |
| 代理公司: | 北京市廣友專利事務所有限責任公司 11237 | 代理人: | 張仲波 |
| 地址: | 100083*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 尾氣 制備 氣體循環系統 金剛石 沉積裝置 高純氫氣 氣體純化系統 氣體供給系統 金剛石膜 循環系統 原料氣 沉積 噴射 等離子體化學氣相沉積系統 等離子體化學氣相沉積裝置 材料制備領域 沉積系統 高純氣體 氫氣提純 光學級 混合氣 碳元素 提純 熱沉 抽出 | ||
1.一種制備高質量金剛石的氣體循環系統,其特征在于:氣體循環系統由直流噴射等離子體化學氣相沉積系統、氣體供給系統、尾氣循環系統、氣體純化系統組成;直流噴射等離子體化學氣相沉積系統由兩臺直流電弧噴射等離子體裝置組成,氣體純化系統與氣體供給系統、尾氣循環系統以及直流噴射等離子體化學氣相沉積系統相連。
2.根據權利要求1所述一種制備高質量金剛石的氣體循環系統,其特征在于:所述直流電弧噴射等離子體化學氣相沉積系統包括直流噴射等離子體電弧炬,直流噴射等離子體沉積腔體;使用的原料氣包括普通氫氣、高純氬氣和高純甲烷,通入氣體的數量由流量計控制。
3.根據權利要求1所述一種制備高質量金剛石的氣體循環系統,其特征在于:氣體供給系統,包括普通氫氣、高純氬氣、高純甲烷、流量計一、流量計二、流量計三、流量計四、流量計五、流量計六、流量計七、流量計八、流量計九;通過引入氫氣提純系統,能將高純氫氣改為普通純度的氫氣,通過純化之后再通入直流噴射等離子體化學氣相沉積系統。
4.根據權利要求1所述一種制備高質量金剛石的氣體循環系統,其特征在于:尾氣循環系統,包括熱交換器一和熱交換器二、過濾器一和過濾器二、油水分離器一和油水分離器二、羅茨泵一和羅茨泵二、氣體增壓泵。
5.根據權利要求1所述一種制備高質量金剛石的氣體循環系統,其特征在于:所述氣體純化系統與氣體供給系統、尾氣循環系統以及直流噴射等離子體化學氣相沉積系統相連,氣體純化裝置含氫氣提純儀,經過氫氣提純儀純化,高純氫氣由出口流出并重新供給到直流噴射等離子體化學氣相沉積系統中用于高質量光學膜沉積,能實現循環氣的多次利用。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





