[實(shí)用新型]一種清潔型真空磁控濺射設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821593932.1
• 申請日: 2018-09-28
• 公開（公告）號: CN208898987U
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王爍;寧超;杜彥;李鵬;白明杰
• 申請（專利權(quán)）人: 天津南玻節(jié)能玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 天津?yàn)I海科緯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12211
• 代理人: 李莎

本實(shí)用新型提供了一種清潔型真空磁控濺射設(shè)備，包括真空濺射室、設(shè)置在真空濺射室內(nèi)的靶材，靶材的下方設(shè)有上遮擋板，靶材的下方設(shè)有下遮擋板，靶材的兩側(cè)設(shè)有側(cè)遮擋板，下遮擋板上設(shè)有若干截面呈長方形且相互平行的導(dǎo)粉通孔，下遮擋板的下方設(shè)有粉末收集盒，粉末收集盒內(nèi)設(shè)有粉末清除機(jī)構(gòu)，粉末清除機(jī)構(gòu)包括運(yùn)動(dòng)通道，運(yùn)動(dòng)通道垂直于導(dǎo)粉通孔且連通各導(dǎo)粉通孔，相鄰的兩個(gè)導(dǎo)粉通孔之間設(shè)有除粉擦，運(yùn)動(dòng)通道內(nèi)設(shè)有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型通過除粉擦將落在下遮擋板上的粉末狀顆粒掃入到粉末收集盒中，大大減少位于靶材下方的下遮擋板的清潔或者更換頻率，提高設(shè)備的稼動(dòng)率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于玻璃鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種清潔型真空磁控濺射設(shè)備。

背景技術(shù)

真空濺射鍍膜是利用靶材發(fā)生濺射，使濺射物附著在工件表面形成膜層，即達(dá)到鍍膜，磁控濺射鍍膜機(jī)是常見的真空濺射鍍膜設(shè)備。真空磁控濺射時(shí)，基板和靶材正對間隔放置在真空濺射室中，在基板和靶材的四周圍設(shè)有遮擋板，遮擋板遮擋住從靶材上濺射出來的靶材粒子，防止靶材粒子濺射到真空濺射室的內(nèi)壁。

靶材粒子不斷地在遮擋板的表面沉積，形成粉末狀的顆粒。由于重力的作用，位于靶材下方的遮擋板上積累的粉末狀顆粒尤其多。為避免遮擋板上沉積過多的靶材粒子，在使用一段時(shí)間后需要打開真空濺射室對遮擋板進(jìn)行清潔或者定期更換遮擋板，操作繁瑣，在此期間磁控濺射設(shè)備無法使用，設(shè)備稼動(dòng)率較低。

實(shí)用新型內(nèi)容

有鑒于此，本實(shí)用新型旨在提出一種清潔型真空磁控濺射設(shè)備，該設(shè)備可以減少位于靶材下方的下遮擋板的清潔或者更換頻率，提高設(shè)備的稼動(dòng)率。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一種清潔型真空磁控濺射設(shè)備，包括真空濺射室、設(shè)置在真空濺射室內(nèi)的靶材，靶材的下方設(shè)有上遮擋板，靶材的下方設(shè)有下遮擋板，靶材的兩側(cè)設(shè)有側(cè)遮擋板，下遮擋板上設(shè)有若干截面呈長方形且相互平行的導(dǎo)粉通孔，下遮擋板的下方設(shè)有粉末收集盒，粉末收集盒內(nèi)設(shè)有粉末清除機(jī)構(gòu)，粉末清除機(jī)構(gòu)包括一上下貫通下遮擋板的運(yùn)動(dòng)通道，運(yùn)動(dòng)通道垂直于導(dǎo)粉通孔且連通各導(dǎo)粉通孔，相鄰的兩個(gè)導(dǎo)粉通孔之間設(shè)有與導(dǎo)粉通孔相平行的除粉擦，除粉擦的下表面與下遮擋板的上表面相貼合，運(yùn)動(dòng)通道內(nèi)設(shè)有驅(qū)動(dòng)除粉擦在與其相鄰的兩個(gè)導(dǎo)粉通孔之間往復(fù)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。

進(jìn)一步的，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括若干移動(dòng)分桿和一個(gè)連接各移動(dòng)分桿的移動(dòng)總桿，移動(dòng)分桿與除粉擦一一對應(yīng)，移動(dòng)分桿的上端穿過運(yùn)動(dòng)通道與除粉擦相固定連接，移動(dòng)分桿的下端位于粉末收集盒內(nèi)，移動(dòng)總桿與移動(dòng)分桿的下端固定連接，粉末收集盒的內(nèi)壁上固定有氣缸，氣缸的伸縮桿與移動(dòng)總桿固定連接以驅(qū)動(dòng)移動(dòng)總桿沿運(yùn)動(dòng)通道的長度方向運(yùn)動(dòng)。

進(jìn)一步的，導(dǎo)粉通孔的長度方向與下遮擋板的寬度方向相同，導(dǎo)粉通孔共有八個(gè)，除粉擦共有七個(gè)。

進(jìn)一步的，除粉擦呈長條狀，除粉擦的長度與導(dǎo)粉通孔的長度大小相等，除粉擦的下表面設(shè)有刷毛。

進(jìn)一步的，上遮擋板的內(nèi)表面均勻分布有多個(gè)凹陷。

進(jìn)一步的，上遮擋板和側(cè)遮擋板的外表面均設(shè)有冷卻夾層，冷卻夾層內(nèi)填充有冷卻液。

進(jìn)一步的，冷卻液為水或乙醇。

相對于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型所述的清潔型真空磁控濺射設(shè)備具有以下優(yōu)勢：

(1)本實(shí)用新型所述的清潔型真空磁控濺射設(shè)備，通過除粉擦的往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)將落在下遮擋板上的粉末狀顆粒經(jīng)導(dǎo)粉通孔掃入到粉末收集盒中，大大減少位于靶材下方的下遮擋板的清潔或者更換頻率，提高設(shè)備的稼動(dòng)率；

(2)本實(shí)用新型所述的清潔型真空磁控濺射設(shè)備，上遮擋板的內(nèi)表面均勻分布有多個(gè)凹陷，凹陷使得上遮擋板的面積變大，有利于提高上遮擋板容納粉末狀顆粒的能力；

(3)本實(shí)用新型所述的清潔型真空磁控濺射設(shè)備，通過設(shè)置的冷卻夾層，防止上遮擋板和側(cè)遮擋板過熱變形。