[實用新型]磁控濺射傳輸裝置有效
| 申請號: | 201821592715.0 | 申請日: | 2018-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN209113983U | 公開(公告)日: | 2019-07-16 |
| 發明(設計)人: | 楊文舉 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606 | 代理人: | 胡明強 |
| 地址: | 100176 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 車體 第一絕緣裝置 導軌 磁控濺射 遮擋裝置 傳輸裝置 電弧 絕緣穩定性 導軌間隔 鍍膜膜層 放電現象 運輸裝置 絕緣 申請 遮擋 | ||
本申請涉及一種磁控濺射傳輸裝置,其包括導軌、車體、第一絕緣裝置和遮擋裝置。所述車體沿所述導軌所在方向運動,且所述車體與所述導軌間隔設置。所述第一絕緣裝置設置于所述導軌與所述車體之間。所述遮擋裝置遮擋所述第一絕緣裝置。所述遮擋裝置使所述導軌與所述車體之間絕緣。本申請提供的所述磁控濺射運輸裝置提高了所述第一絕緣裝置的絕緣穩定性和可靠性,從而杜絕了放電現象的產生,防止鍍膜膜層出現電弧紋現象。
技術領域
本申請涉及磁控濺射鍍膜領域,特別是涉及一種磁控濺射傳輸裝置。
背景技術
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。磁控濺射鍍膜是一種現代工業常用的鍍膜工藝。磁控濺射鍍膜是在真空系統條件下,將工藝氣體氬氣與反應氣體通入腔室內。使用高強電壓,使氬氣電離。氬離子在電場和磁場的共同作用下撞擊靶材,使得目標原子獲得一個動量,飛向基板,從而沉積到基板表面行成鍍膜效果。
磁控濺射鍍膜是薄膜太陽能電池加工的重要過程。在薄膜太陽能電池生產的磁控濺射鍍膜過程中,需要使用傳輸裝置帶動玻璃基板進行運動,從而達到傳動效果。傳輸裝置的車體與導軌需要保持絕緣。因此,人們在車體與導軌之間設置絕緣裝置來保證傳輸裝置車體與導軌之間的絕緣狀態。
然而,這樣結構的運輸裝置絕緣效果不可靠,容易出現放電現象,從而導致鍍膜膜層出現電弧紋現象。
實用新型內容
針對以上技術問題,本申請提供一種磁控濺射傳輸裝置。
一種磁控濺射傳輸裝置,包括:
導軌;
車體,所述車體沿所述導軌所在方向運動,且所述車體與所述導軌間隔設置;
第一絕緣裝置,設置于所述導軌與所述車體之間;
遮擋裝置,遮擋所述第一絕緣裝置,所述遮擋裝置使所述導軌與所述車體之間絕緣。
在其中一個實施例中,所述遮擋裝置固定于所述車體,且所述遮擋裝置與所述導軌不接觸。
在其中一個實施例中,所述遮擋裝置通過絕緣緊固件固定于所述車體。
在其中一個實施例中,所述遮擋裝置固定于所述導軌,且所述遮擋裝置與所述車體不接觸。
在其中一個實施例中,所述遮擋裝置固定于所述第一絕緣裝置,且所述遮擋裝置與所述導軌和所述車體均不接觸。
在其中一個實施例中,所述第一絕緣裝置包括多個第一絕緣塊,多個所述第一絕緣塊間隔固定于所述導軌與所述車體之間。
在其中一個實施例中,所述車體包括支撐框架,所述第一絕緣裝置設置于所述支撐框架外邊緣。
在其中一個實施例中,所述支撐框架內邊緣設置第二絕緣裝置。
在其中一個實施例中,所述第二絕緣裝置包括多個第二絕緣塊,多個所述第二絕緣塊間隔設置于所述支撐框架內邊緣。
在其中一個實施例中,所述導軌與所述第一絕緣裝置接觸部分表面包覆有絕緣鍍膜。
本申請實施例提供的所述磁控濺射運輸裝置包括導軌、車體、第一絕緣裝置和遮擋裝置。所述遮擋裝置遮擋所述第一絕緣裝置,且所述遮擋裝置使所述導軌與所述車體之間絕緣。磁控濺射過程中所述遮擋裝置遮擋濺射氣氛,使得所述第一絕緣裝置不會被金屬鍍層包覆。因此,所述第一絕緣裝置不會出現絕緣失效現象。本實施例提供的所述磁控濺射運輸裝置提高了所述第一絕緣裝置的絕緣穩定性和可靠性,從而杜絕了放電現象的產生,防止鍍膜膜層出現電弧紋現象。
附圖說明
圖1為本申請一個實施例提供的磁控濺射傳輸裝置正視圖;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司,未經北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821592715.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





