[實用新型]一種碎片清理裝置

有效

• 申請號: 201821591844.8
• 申請日: 2018-09-28
• 公開（公告）號: CN209143147U
• 公開（公告）日: 2019-07-23
• 發明（設計）人: 王浩
• 申請（專利權）人: 東泰高科裝備科技有限公司
• 主分類號: B65G47/90
• 分類號: B65G47/90
• 代理公司: 北京易捷勝知識產權代理事務所(普通合伙) 11613
• 代理人: 齊勝杰

本實用新型涉及一種碎片清理裝置，包括本體、基片承載機構、驅動機構和碎片清理機構，基片承載機構放置在本體內，用于驅動碎片清理機構移動的驅動機構設在本體上，驅動機構和碎片清理機構配合清理基片承載機構中任意位置的碎片。本實用新型的碎片清理裝置能夠有效地清理生產過程中出現的碎片，進而保證設備出現碎片問題后生產的繼續進行，同時也能防止碎片殘渣對鍍膜基片的污染，減少生產過程中材料的浪費造成的經濟損失，保證了設備的產能。

技術領域

本實用新型屬于碎片清理技術領域，具體涉及一種碎片清理裝置。

背景技術

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)是指用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。PVD設備是實現該過程的一種普遍應用的生產設備，目前為了提高設備的產能，一般采用PVD設備+載板搭載多個基片的模式，在載板上設有多個凹槽分別對應放置多個基片，然后再用多個壓片分別對應壓緊多個基片。PVD設備由多個腔室組成，多個基片放置在載板上每經過一個腔室鍍一層膜。

一般PVD設備包括臥式PVD設備和立式PVD設備。其中，在臥式PVD設備中，載板和基片水平經過腔室，由上向下(或由下向上)鍍膜；而在立式PVD設備中，載板和基片豎直經過腔室，由一側進行鍍膜。相對于臥式PVD設備占地面積大、工藝過程中顆粒難以控制等問題，立式PVD設備可以有效避免臥式PVD設備的上述問題，同時立式PVD設備還具有降低成本、膜層質量好等優點。因此，越來越多的工廠生產、應用立式PVD設備。

但是，立式PVD設備在生產過程中會不可避免的發生因基片的傳動及濺射造成的基片碎裂等問題，而在發生碎片時，如不及時清理載板上的碎片，可能會導致載板此處位置無法裝片、裝片后又碎裂等問題，進而造成設備的產能降低，也導致生產過程中材料的浪費，造成經濟的損失。同時碎片殘渣還可能會對鍍膜基片造成顆粒污染，甚至可能會影響到已鍍膜的膜層的質量。而目前對生產過程中的碎片問題尚未有有效地處理方法。

實用新型內容

(一)要解決的技術問題

為了解決現有技術的上述問題，本實用新型提供一種碎片清理裝置，解決了現有技術中無法有效清理在生產過程中出現的碎片殘渣的問題。

(二)技術方案及效果

為了達到上述目的，本實用新型采用的主要技術方案包括：

本實用新型提供一種碎片清理裝置，包括本體、基片承載機構、驅動機構和碎片清理機構；基片承載機構放置在本體內，用于驅動碎片清理機構移動的驅動機構設在本體上；驅動機構和碎片清理機構配合清理基片承載機構中任意位置的碎片。

整個裝置通過驅動機構和碎片清理機構的相互配合，就能夠徹底清潔碎片殘渣。通過驅動裝置驅動碎片清理機構移動，實現了快速清理基片承載機構上碎片殘渣的目的。同時整個裝置結構簡單，操作簡便，將基片的碎渣清理干凈后能夠保證設備生產的繼續正常進行，避免了碎片的殘留導致的無法裝片、裝片后又破碎以及碎片殘渣對基片的污染問題，進而提高了設備的產能，保證了鍍膜的質量，同時減少了生產過程中材料的浪費造成的經濟損失。

可選地，碎片清理機構包括：用于清理基片承載機構上的碎片的吸塵器；以及用于將碎片上的壓片取出的機械手。

這樣，通過機械手和吸塵器的相互配合并在基片承載機構的上方交替運動工作，實現了快速清理基片承載機構上碎片殘渣的目的，同時結構簡單，操作簡便。

可選地，驅動機構包括第一橫向導軌、第二橫向導軌和縱向導軌；第一橫向導軌和第二橫向導軌在同一水平面內平行且對稱固定在本體上表面的兩側，其上分別設有可沿導軌往復滑動的第一橫向滑塊和第二橫向滑塊；縱向導軌的兩端分別與第一橫向滑塊和第二橫向滑塊固定連接，在縱向導軌上設有可沿軌道往復滑動的第一縱向滑塊和第二縱向滑塊；機械手固定在第一縱向滑塊的下方，吸塵器固定在第二縱向滑塊的下方。