[實(shí)用新型]基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821587754.1
• 申請日: 2018-09-28
• 公開（公告）號: CN208938930U
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大野宏樹;佐藤秀明;稻田尊士;河野央;西脇良典;大津孝彥
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

基板處理槽；

磷酸處理液供給部，其供給在所述基板處理槽中的蝕刻處理中使用的磷酸處理液；

循環(huán)路徑，其用于使被供給到所述基板處理槽的所述磷酸處理液循環(huán)；

SiO₂析出防止劑供給部，其向所述循環(huán)路徑供給SiO₂析出防止劑；以及

混合部，其將含硅化合物混合到供給至所述循環(huán)路徑之前的所述磷酸處理液中。

2.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

基板處理槽；

磷酸處理液供給部，其供給在所述基板處理槽中的蝕刻處理中使用的磷酸處理液；

SiO₂析出防止劑供給部，其供給SiO₂析出防止劑；

循環(huán)路徑，其用于使被供給到所述基板處理槽的所述磷酸處理液循環(huán)；以及

混合部，其將所述SiO₂析出防止劑混合到供給至所述循環(huán)路徑之前的所述磷酸處理液中。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述混合部為將從所述磷酸處理液供給部供給的所述磷酸處理液與從所述SiO₂析出防止劑供給部供給的所述SiO₂析出防止劑混合后進(jìn)行貯存的預(yù)備罐。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

具備預(yù)備罐，所述預(yù)備罐用于將含硅化合物混合到從所述磷酸處理液供給部供給的所述磷酸處理液中后進(jìn)行貯存，

所述混合部將所述SiO₂析出防止劑混合到從所述預(yù)備罐供給的所述磷酸處理液中。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述混合部將所述SiO₂析出防止劑混合到常溫的所述磷酸處理液中。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述混合部通過使所述磷酸處理液和所述SiO₂析出防止劑產(chǎn)生紊流，來將所述SiO₂析出防止劑混合到所述磷酸處理液中。