[實用新型]光源裝置、投影儀有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821586056.X | 申請日： | 2018-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN208834084U | 公開（公告）日： | 2019-05-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 信田和彥;山田裕貴;三浦雄一 | 申請（專利權(quán)）人： | 優(yōu)志旺電機株式會社 |
| 主分類號： | G03B21/20 | 分類號： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 高迪 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 射出 半導(dǎo)體激光器單元 平坦面 半導(dǎo)體激光器芯片 折射光學(xué)系統(tǒng) 光射出區(qū)域 光源裝置 凸曲面 入射 投影儀 投影儀光源 數(shù)量對應(yīng) 相隔距離 抑制裝置 光輸出 主光線 平行 平坦 行進 配置 | ||
1.一種光源裝置，其特征在于，具備：
多個半導(dǎo)體激光器單元，包括多個光射出區(qū)域和第一折射光學(xué)系統(tǒng)，上述多個光射出區(qū)域設(shè)置在相同或不同的半導(dǎo)體激光器芯片上，上述第一折射光學(xué)系統(tǒng)被入射從相鄰的多個上述光射出區(qū)域射出的多個第一光線束，將上述多個第一光線束分別變換為作為大致平行光線束的多個第二光線束并射出；以及
第二折射光學(xué)系統(tǒng)，包含具有不同的傾斜角的多個平坦面或以上述多個平坦面的各個平坦面為基礎(chǔ)而突出的多個凸曲面，從相同的上述半導(dǎo)體激光器單元射出的多個上述第二光線束各自的至少一部分入射到不同的上述平坦面或不同的上述凸曲面，以縮小從相同的上述半導(dǎo)體激光器單元射出的多個上述第二光線束各自的主光線彼此的相隔距離的方式對多個上述第二光線束的行進方向進行變換并射出，
上述第二折射光學(xué)系統(tǒng)與上述半導(dǎo)體激光器單元的數(shù)量對應(yīng)地被配置。
2.如權(quán)利要求1所述的光源裝置，其特征在于，
上述第二折射光學(xué)系統(tǒng)是包含以具有不同的傾斜角的多個上述平坦面中的各個上述平坦面為基礎(chǔ)向與上述第一折射光學(xué)系統(tǒng)相反側(cè)突出的多個凸曲面的結(jié)構(gòu)，
多個上述凸曲面的焦點距離是從上述第二折射光學(xué)系統(tǒng)的光射出面?zhèn)鹊奈恢玫綇纳鲜龅诙凵涔鈱W(xué)系統(tǒng)射出的多個上述第二光線束各自的主光線彼此的交叉部位為止的距離以上，或者是從上述第二折射光學(xué)系統(tǒng)的光射出面?zhèn)鹊奈恢玫蕉鄠€上述第二光線束各自的主光線的假想延長線彼此的交叉部位為止的距離以上。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光源裝置，其特征在于，
從相同的上述第一折射光學(xué)系統(tǒng)射出的多個上述第二光線束所入射的上述多個平坦面、或從相同的上述第一折射光學(xué)系統(tǒng)射出的多個上述第二光線束所入射的上述多個凸曲面的作為基礎(chǔ)的上述多個平坦面，距上述第二折射光學(xué)系統(tǒng)的光軸的距離越遠，則傾斜角的絕對值越小。
4.如權(quán)利要求1或2所述的光源裝置，其特征在于，
上述第一折射光學(xué)系統(tǒng)在光射出面?zhèn)染哂型怀龅那妫?/p>
上述第二折射光學(xué)系統(tǒng)相對于上述第一折射光學(xué)系統(tǒng)，配置在比上述第一折射光學(xué)系統(tǒng)的焦點距離更遠離的位置。
5.如權(quán)利要求4所述的光源裝置，其特征在于，
上述第二折射光學(xué)系統(tǒng)配置在相鄰的一對上述第二光線束之中一方的上述第二光線束的上光線與另一方的上述第二光線束的下光線交叉的特定位置，或者比上述特定位置更遠離上述第一折射光學(xué)系統(tǒng)的位置。
6.如權(quán)利要求1或2所述的光源裝置，其特征在于，
上述第二折射光學(xué)系統(tǒng)配置在不被入射從相鄰的上述半導(dǎo)體激光器單元射出的上述第二光線束的位置。
7.一種投影儀，其特征在于，
利用從權(quán)利要求1或2所述的光源裝置射出的光，將圖像進行投影。
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