[實(shí)用新型]料理機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821575593.4
• 申請(qǐng)日: 2018-09-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209391748U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王路
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 浙江紹興蘇泊爾生活電器有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): A47J43/04
• 分類(lèi)號(hào): A47J43/04;A47J43/07;A47J36/24
• 代理公司: 北京博思佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415
• 代理人: 林祥

本公開(kāi)是關(guān)于一種料理機(jī)，所述料理機(jī)包括：杯組件、刀具組件和加熱組件。通過(guò)為料理機(jī)加熱組件的線(xiàn)圈支架設(shè)置至少兩個(gè)容納部，并使線(xiàn)圈對(duì)應(yīng)的收容于容納部?jī)?nèi)，使得至少兩個(gè)容納部?jī)?nèi)的線(xiàn)圈包含的子線(xiàn)圈的層數(shù)不等。通過(guò)在線(xiàn)圈支架不同區(qū)域中的容納部中組裝具備適宜層數(shù)的子線(xiàn)圈，調(diào)整了位于線(xiàn)圈支架不同區(qū)域的線(xiàn)圈與位于其上方的導(dǎo)磁盤(pán)配合所產(chǎn)生的熱量，因此提升了料理機(jī)的加熱均勻性。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開(kāi)涉及料理機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及料理機(jī)。

背景技術(shù)

在相關(guān)技術(shù)中，例如破壁機(jī)等具備加熱功能的料理機(jī)通常包含用于加熱的線(xiàn)圈，線(xiàn)圈設(shè)置在料理機(jī)杯體的底部，以對(duì)杯體內(nèi)的食物進(jìn)行加熱處理。然而，由于線(xiàn)圈不同區(qū)域產(chǎn)生磁力線(xiàn)的密集程度不同，導(dǎo)致線(xiàn)圈不同區(qū)域的加熱效果不同，影響了食物的受熱均勻性。

因此，如何提升料理機(jī)的加熱均勻性成為當(dāng)前領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本公開(kāi)提供一種料理機(jī)，以提升料理機(jī)的加熱均勻性。

根據(jù)本公開(kāi)的實(shí)施例提出一種料理機(jī)，包括：

加熱組件，包括導(dǎo)磁盤(pán)、線(xiàn)圈支架和至少兩組線(xiàn)圈；所述線(xiàn)圈支架包括沿其徑向設(shè)置的至少兩個(gè)容納部，所述線(xiàn)圈對(duì)應(yīng)收容于所述容納部中；所述線(xiàn)圈包括至少一層子線(xiàn)圈，且至少兩個(gè)所述容納部中的所述線(xiàn)圈的所述子線(xiàn)圈層數(shù)不等；所述導(dǎo)磁盤(pán)對(duì)應(yīng)設(shè)置于所述線(xiàn)圈上方；

刀具組件，與所述導(dǎo)磁盤(pán)組裝配合；

杯組件，包括杯體，所述刀具組件組裝于所述杯體內(nèi)部。

可選的，所述加熱組件還包括支撐件，所述支撐件設(shè)置于所述容納部且位于所述線(xiàn)圈的下方。

可選的，所述線(xiàn)圈支架的中心區(qū)域設(shè)有組裝部，所述線(xiàn)圈支架包括靠近所述組裝部的內(nèi)側(cè)區(qū)域、遠(yuǎn)離所述組裝部的外側(cè)區(qū)域和位于所述內(nèi)側(cè)區(qū)域和外側(cè)區(qū)域之間的中部區(qū)域；所述中部區(qū)域設(shè)有第一容納部，所述內(nèi)側(cè)區(qū)域設(shè)有第二容納部，所述外側(cè)區(qū)域設(shè)有第三容納部；

收容于所述第一容納部的子線(xiàn)圈層數(shù)分別小于收容于所述第二容納部的子線(xiàn)圈層數(shù)以及收容于所述第三容納部的子線(xiàn)圈層數(shù)。

可選的，收容于所述第二容納部的線(xiàn)圈與收容于所述第三容納部的線(xiàn)圈的子線(xiàn)圈層數(shù)不等。

可選的，收容于所述第三容納部的線(xiàn)圈的子線(xiàn)圈層數(shù)大于收容于所述第二容納部的線(xiàn)圈的子線(xiàn)圈層數(shù)。

可選的，所述加熱組件還包括磁環(huán)，所述磁環(huán)組裝于所述組裝部?jī)?nèi)。

可選的，所述加熱組件還包括磁條，所述線(xiàn)圈支架上設(shè)有定位部，所述磁條組裝于所述線(xiàn)圈支架下方，且與所述定位部組裝配合。

可選的，所述磁條還包括凸緣，所述凸緣設(shè)置在所述磁條的邊緣位置。

可選的，所述加熱組件組裝于所述杯體底部。

可選的，所述料理機(jī)還包括機(jī)座，所述機(jī)座包括主控件和設(shè)置在所述機(jī)座頂部的安裝部；所述導(dǎo)磁盤(pán)組裝于所述杯體底部，所述線(xiàn)圈支架組裝于所述安裝部，所述線(xiàn)圈與所述主控件電連接。

本公開(kāi)的實(shí)施例提供的技術(shù)方案可以包括以下有益效果：

本公開(kāi)通過(guò)為料理機(jī)加熱組件的線(xiàn)圈支架設(shè)置至少兩個(gè)容納部，并使線(xiàn)圈對(duì)應(yīng)的收容于容納部?jī)?nèi)，使得至少兩個(gè)容納部?jī)?nèi)的線(xiàn)圈包含的子線(xiàn)圈的層數(shù)不等。通過(guò)在線(xiàn)圈支架不同區(qū)域中的容納部中組裝具備適宜層數(shù)的子線(xiàn)圈，調(diào)整了位于線(xiàn)圈支架不同區(qū)域的線(xiàn)圈與位于其上方的導(dǎo)磁盤(pán)配合所產(chǎn)生的熱量，因此提升了料理機(jī)的加熱均勻性。

應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本公開(kāi)。

附圖說(shuō)明