[實(shí)用新型]一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821561832.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209150141U | 公開(公告)日: | 2019-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林素慧;許圣賢;沈孟駿;夏章艮;黃禹杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門市三安光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/20 | 分類號(hào): | H01L33/20;H01L33/38 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 361009 福建省廈*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體層 發(fā)光二極管結(jié)構(gòu) 凹凸溝槽結(jié)構(gòu) 本實(shí)用新型 發(fā)光外延層 絕緣保護(hù)層 第二電極 第一電極 活性層 臺(tái)面 兩層 | ||
1.一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),包括:由第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層及夾在兩層之間的活性層構(gòu)成的發(fā)光外延層,其厚度為T,露出臺(tái)面的第一半導(dǎo)體層,連接至第二半導(dǎo)體層的第二電極,以及絕緣保護(hù)層,其特征在于:于所述臺(tái)面上形成有一凹凸溝槽結(jié)構(gòu),其高度為H,第一電極包裹所述凹凸溝槽結(jié)構(gòu)并連接至所述第一半導(dǎo)體層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一電極外表面具有一臺(tái)階,定義位于所述臺(tái)階之上的第一電極為上電極部,位于所述臺(tái)階之下的第一電極為下電極部,所述絕緣保護(hù)層附著于所述下電極部的側(cè)壁及臺(tái)階的上表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所示第一電極外形具有凹凸起伏結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所述凹凸溝槽結(jié)構(gòu)的俯視圖角度呈封閉式或者半封閉式。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所述凹凸溝槽結(jié)構(gòu)的高度H與所述發(fā)光外延層的厚度T符合關(guān)系式:1/3T≤H≤T。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所述凹凸溝槽結(jié)構(gòu)的高度H≥1μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所述凹凸溝槽結(jié)構(gòu)為部分保留的發(fā)光外延層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所述凹凸溝槽結(jié)構(gòu)為介質(zhì)層或者金屬層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所述絕緣保護(hù)層材料選用SiO2或Si3N4或Al2O3 或TiO2。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一電極的表層金屬包括Ti或TiN或Cr或Ni粘附金屬層。
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