[實用新型]一種間距檢測裝置

有效

• 申請號: 201821551696.7
• 申請日: 2018-09-21
• 公開（公告）號: CN208805144U
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 張峰;嚴攀;金錕
• 申請（專利權）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司
• 主分類號: G01B5/14
• 分類號: G01B5/14
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 俞滌炯

本實用新型公開了一種間距檢測裝置，應用于磁控物理氣相沉積裝置，磁控物理氣相沉積裝置包括用于產生磁場的一磁鐵和用于裝載靶材的一承載板；其中，間距檢測裝置包括量測主體、滑塊、測量表和支架，量測主體套設于滑塊內與滑塊滑動連接，測量表固定設置在支架上，支架與滑塊固定連接使得測量表的延伸方向與量測主體的所在平面垂直；其中，測量表為百分表；與現有技術相比，本實用新型通過改進間距檢測裝置的結構簡化了測量的操作步驟，具有較大的測量范圍，較小的測量誤差，且具備較強的實用性。

技術領域

本實用新型涉及半導體加工設備技術領域，尤其涉及一種用于測量磁控物理氣相沉積裝置的靶材與磁力源之間的間距的間距檢測裝置。

背景技術

在PVD(Physical Vapor Deposition物理氣相沉積，簡稱PVD)鍍膜工藝中，有一項重要的指標參數需要進行精確測量，該指標參數為磁力源到靶面的間距，如圖1所示，間距A即為磁力源到靶材的靶面的間距。在現有技術中，測量磁力源到靶面的間距一般通過一測量工具完成，該測量工具由量測主體和測量部件組成，測量部件為游標卡尺，量測主體與測量部件為一整體結構，量測主體可以相對測量部件變換工作姿態。如圖2所示，該測量工具測量間距A的原理是，首先用量測主體上下對準磁力源的上表面和靶材的上表面，然后利用游標卡尺測量磁力源上表面與靶材上表面的間距對應在量測主體上的距離，得到一間距H，然后以同樣的方式測得靶材本身的高度h，最后計算H與h之差得到間距A。

上述的測量方法雖然結構簡單，使用成本較低，但存在精度不高的技術問題，而且，在每一次測量過程中均需要調整量測主體的初始位置以與靶材的上表面齊平，影響了測量的便利性。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是，提供一種測量精度高、操作簡單靈活的，并且具備較大測量范圍的一種間距檢測裝置。

本實用新型解決其技術問題采取的技術方案是，提供一種間距檢測裝置，應用于磁控物理氣相沉積裝置，所述磁控物理氣相沉積裝置包括用于產生磁場的一磁力源和用于裝載靶材的一承載板；

其中，所述間距檢測裝置包括量測主體、滑塊、測量表和支架，所述量測主體套設于所述滑塊內與所述滑塊滑動連接，所述測量表固定設置在所述支架上，所述支架與所述滑塊固定連接使得所述測量表的延伸方向與所述量測主體的所在平面垂直；

其中，所述測量表為百分表。

作為本實用新型的一種優選方案，所述支架包括用于固定連接所述滑塊的一第一連接結構；

所述第一連接結構包括用于連接所述滑塊的上表面的一第一面，以及用于連接所述滑塊的側面的一第二面。

作為本實用新型的一種優選方案，所述支架還包括用于固定所述支架的一第二連接結構；

所述第二連接結構使得固定的所述測量表與所述滑塊的側壁具有一預設距離。

作為本實用新型的一種優選方案，所述量測主體為條狀結構，所述量測主體的兩端的底部位置分別固定設置有一相同的標準塊。

作為本實用新型的一種優選方案，所述標準塊的底部低于所述滑塊的底部。

作為本實用新型的一種優選方案，每一個所述標準塊均通過螺絲固定安裝在所述量測主體上。

作為本實用新型的一種優選方案，所述滑塊與所述支架通過螺絲相互固定。

作為本實用新型的一種優選方案，所述測量表通過螺絲固定設置在所述支架上。

作為本實用新型的一種優選方案，所述量測主體的上下兩個表面均設置有刻度線。

作為本實用新型的一種優選方案，所述測量表為百分表。