[實用新型]一種混凝沉淀法處理含汞廢水用混凝劑添加裝置

有效

• 申請號: 201821520661.7
• 申請日: 2018-09-18
• 公開（公告）號: CN209010210U
• 公開（公告）日: 2019-06-21
• 發明（設計）人: 陳苗;楊春燕;許明
• 申請（專利權）人: 陳苗
• 主分類號: C02F1/52
• 分類號: C02F1/52;C02F101/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種混凝沉淀法處理含汞廢水用混凝劑添加裝置，其特征是:包括反應釜、反應釜側耳、套環、支撐柱、底板、支桿、定位板，所述反應釜兩側具有反應釜側耳，套環具有反應釜孔,反應釜外側與反應釜孔相適應，反應釜外側穿過反應釜孔,套環上表面連接反應釜側耳,套環具有支撐柱上槽,支撐柱上部與支撐柱上槽相適應，支撐柱上部插入支撐柱上槽,套環具有插桿,支撐柱具有插桿槽,插桿與插桿槽相適應，插桿連接插桿槽,支撐柱下部具有支撐柱下板,支撐柱下板下表面連接底板,支撐柱下板通過多個螺栓連接底板，四個支撐柱繞底板軸線均勻分布，托板上部具有反應釜下槽,反應釜底面與反應釜下槽相適應，反應釜底面連接反應釜下槽，托板下部具有多個支桿上槽,支桿上部與支桿上槽相適應，支桿上部連接支桿上槽,底板具有多個支桿下槽,支桿下部與支桿下槽相適應，支桿下部通過螺紋連接支桿下槽，四個支桿繞底板軸線均勻分布。

2.根據權利要求1所述的一種混凝沉淀法處理含汞廢水用混凝劑添加裝置，其特征是:所述支桿上部具有支桿凸環,定位板左側具有支桿孔,支桿與支桿孔相適應，支桿上部穿過支桿孔,定位板左側下表面連接支桿凸環，定位板右側具有支撐柱孔,支撐柱與支撐柱孔相適應，支撐柱穿過支撐柱孔,支撐柱下部具有支撐柱凸環,定位板右側下表面連接支撐柱凸環,支桿凸環與支撐柱凸環處于同一平面上。