[實用新型]化學機械研磨墊有效
| 申請號： | 201821519455.4 | 申請日： | 2018-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN209110816U | 公開（公告）日： | 2019-07-16 |
| 發明（設計）人： | 王盼;蔡長益 | 申請（專利權）人： | 長鑫存儲技術有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/26 | 分類號： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京律智知識產權代理有限公司 11438 | 代理人： | 董天寶;于寶慶 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學機械研磨 研磨層 微突起 基底 晶圓 研磨 均一性 孔隙率 研磨墊 刮傷 保證 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械研磨墊，包括：基底及形成于所述基底上的研磨層，其中所述研磨層的表面具有：
多個均勻有序分布的微突起結構；
多個溝槽，形成于多個所述微突起結構之間；
其中，所述研磨層表面的孔隙率為30％～50％。
2.根據權利要求1所述的化學機械研磨墊，其特征在于，相鄰的所述微突起結構之間的間距為0.3um～11um。
3.根據權利要求1所述的化學機械研磨墊，其特征在于，所述微突起結構的高度為100um～300um。
4.根據權利要求1所述的化學機械研磨墊，其特征在于，所述微突起結構的直徑為0.5um～20um。
5.根據權利要求1所述的化學機械研磨墊，其特征在于，所述多個溝槽在所述研磨層表面上的正投影軌跡呈波浪形，且該波浪形的正投影軌跡符合簡諧運動的運動軌跡。
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