[實用新型]等離子體沉積裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821512063.5
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN208949405U
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孟杰;胡廣嚴(yán);吳孝哲;吳龍江;林宗賢
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52;C23C16/505;C23C14/54
• 代理公司: 上海盈盛知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31294
• 代理人: 孫佳胤;陳麗麗

1.一種等離子體沉積裝置，包括用于容納晶圓的反應(yīng)腔室，其特征在于，還包括：

射頻電源，用于向所述反應(yīng)腔室傳輸射頻信號，使所述反應(yīng)腔室中的反應(yīng)氣體發(fā)生輝光放電生成等離子體；

傳感器，用于檢測所述反應(yīng)腔室中的輝光強(qiáng)度；

控制器，同時連接所述傳感器和所述射頻電源，用于判斷所述輝光強(qiáng)度是否在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，若否，則調(diào)整所述射頻電源傳輸至所述反應(yīng)腔室的功率大小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體沉積裝置，其特征在于，所述反應(yīng)腔室的側(cè)壁具有至少一開口，所述傳感器置于所述開口內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體沉積裝置，其特征在于，所述反應(yīng)腔室的側(cè)壁具有關(guān)于所述反應(yīng)腔室的中心對稱分布的多個開口，多個所述傳感器一一置于多個所述開口內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體沉積裝置，其特征在于，還包括設(shè)置于所述傳感器的入光面與所述反應(yīng)腔室之間的過濾器，用于過濾所述反應(yīng)腔室中的干擾光信號。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體沉積裝置，其特征在于，所述過濾器為僅允許紫外光透過的濾光膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體沉積裝置，其特征在于，所述過濾器置于所述開口內(nèi)；所述過濾器的入光面上設(shè)置有至少一噴嘴，吹掃氣體經(jīng)所述噴嘴朝向所述過濾器的入光面噴射。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子體沉積裝置，其特征在于，至少一噴嘴包括位于所述過濾器邊緣的多個噴嘴，且多個噴嘴關(guān)于所述過濾器的入光面均勻分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子體沉積裝置，其特征在于，所述控制器連接所述噴嘴，用于調(diào)整所述噴嘴噴射所述吹掃氣體的流速。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子體沉積裝置，其特征在于，所述吹掃氣體為氮?dú)饣蛘叨栊詺怏w。