[實(shí)用新型]流體殺菌裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821509824.1
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN209226640U
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盧建均;許鎮(zhèn)鵬;馬林甘
• 申請（專利權(quán)）人: 財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院
• 主分類號: C02F1/32
• 分類號: C02F1/32
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種流體殺菌裝置，其特征在于，該流體殺菌裝置包括：

本體，包括彼此間隔的一第一反應(yīng)腔及一第二反應(yīng)腔，該本體允許一流體依序通過該第一反應(yīng)腔及該第二反應(yīng)腔；

電路板，配置在該本體上；以及

光源，配置在該電路板上，且用以發(fā)出一殺菌光，至少部分該殺菌光，入射于該第一反應(yīng)腔，至少另一部分該殺菌光，入射于該第二反應(yīng)腔。

2.如權(quán)利要求1所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該流體殺菌裝置還包括：

至少一濾芯，配置在該第一反應(yīng)腔和該第二反應(yīng)腔的至少其一內(nèi)。

3.如權(quán)利要求1所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該本體包括一基座，該基座具有一連通腔，該本體允許一流體依序通過該一第一反應(yīng)腔、該連通腔及該第二反應(yīng)腔。

4.如權(quán)利要求3所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該本體還包括一第一管體和一第二管體，其中該第一反應(yīng)腔位于該第一管體中，該第二反應(yīng)腔位于該第二管體中。

5.如權(quán)利要求3所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該本體的該基座包含一基座面件和一基座底件，該基座面件套合于該基座底件。

6.如權(quán)利要求5所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該本體的該基座包含一基座面件和一基座底件，該基座面件的材質(zhì)為聚四氟乙烯。

7.如權(quán)利要求4所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該第一管體及該第二管體與該基座相連接。

8.如權(quán)利要求4所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該第一管體的內(nèi)表面和該第二管體的內(nèi)表面的材質(zhì)與該第一管體的外表面和該第二管體的外表面的材質(zhì)不同。

9.如權(quán)利要求8所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該第一管體的內(nèi)表面和該第二管體的內(nèi)表面為聚四氟乙烯。

10.如權(quán)利要求3所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該基座還具有一分隔部，該分隔部位于該第一反應(yīng)腔與該第二反應(yīng)腔之間。

11.如權(quán)利要求10所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該分隔部具有一第一導(dǎo)光部及一第二導(dǎo)光部，該第一導(dǎo)光部用以引導(dǎo)至少部分該殺菌光至該第一反應(yīng)腔，而該第二導(dǎo)光部用以引導(dǎo)至少部分該殺菌光至該第二反應(yīng)腔。

12.如權(quán)利要求10所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該基座還具有一凹槽，而該凹槽從該連通腔的底面往該殺菌光照射方向延伸至該分隔部。

13.如權(quán)利要求12所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該凹槽的深度大于2厘米。

14.如權(quán)利要求13所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該凹槽的深度為5厘米到8厘米。

15.如權(quán)利要求12所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該凹槽的寬度小于該第一反應(yīng)腔和該第二反應(yīng)腔的直徑。

16.如權(quán)利要求1所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該光源包括一第一發(fā)光元件和一第二發(fā)光元件，該第一發(fā)光元件，發(fā)出該至少部分殺菌光，入射于該第一反應(yīng)腔，該第二發(fā)光元件，發(fā)出該至少另一部分殺菌光，入射于該第二反應(yīng)腔。

17.如權(quán)利要求16所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該第一反應(yīng)腔的長度為該第一發(fā)光元件的發(fā)光面積的邊長的15倍以上。

18.如權(quán)利要求1所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該光源以脈沖信號方式發(fā)光。

19.如權(quán)利要求1所述的流體殺菌裝置，其特征在于，該流體殺菌裝置還包括一光強(qiáng)度感測器，配置在電路板上，以感測該光源發(fā)出的該殺菌光的強(qiáng)度。