[實用新型]防震激光刻蝕機有效
| 申請號: | 201821509020.1 | 申請日: | 2018-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN209078039U | 公開(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發明(設計)人: | 陳剛;袁聰;潘洋;羅莉 | 申請(專利權)人: | 武漢吉事達科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B23K26/362 | 分類號: | B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司: | 江蘇殊成律師事務所 32265 | 代理人: | 楊桂平 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光刻蝕機 防震 二維運動平臺 避震器 本實用新型 二維振鏡頭 控制系統 吸附平臺 激光器 透鏡組 計算機系統 工作穩定 激光頭 良品率 支承 震動 外部 | ||
本實用新型提供一種防震激光刻蝕機,包括機架、激光器、二維振鏡頭、F?θ透鏡組、XY軸二維運動平臺、吸附平臺、控制系統和計算機系統,XY軸二維運動平臺、吸附平臺、控制系統和計算機系統都安裝在機架上,激光器的激光頭、二維振鏡頭和F?θ透鏡組安裝在XY軸二維運動平臺上,其特征在于:還包括避震器,避震器安裝在機架下方,多個避震器支承著整個防震激光刻蝕機。本實用新型的防震激光刻蝕機不受外部震動的干擾,工作穩定,產品的良品率高。
技術領域
本實用新型涉及一種激光刻蝕設備,特別是涉及防震激光刻蝕機。
背景技術
激光刻蝕機是用于刻蝕顯示觸摸屏ITO薄膜、玻璃基底或PET基底銀漿的激光刻蝕設備。其光路多采用二維振鏡頭和F-θ透鏡組組合,二維振鏡頭安裝在機架、升降機構或XY軸二維運動平臺上,F-θ透鏡組安裝在二維振鏡頭下部,被刻蝕的ITO薄膜或銀漿薄膜放置在F-θ透鏡下方的工作臺上,二維振鏡頭的振動電機偏轉使激光光束運動,再經F-θ透鏡組聚焦的焦點軌跡為激光刻蝕的軌跡,也就是所要刻蝕的圖形。
隨著顯示觸摸屏顯示精度和操作精度要求的不斷提高,對激光刻蝕機的蝕刻精度也越來越高,這就要求激光刻蝕機精度高、工作穩定并且不受或少受外部環境的干擾。
在激光刻蝕機的實際使用過程中,高精度的激光刻蝕機往往受外部震動影響比較大,附近的機床啟動、載重汽車的經過、重物的搬運等都會使安裝激光刻蝕機的地基產生震動,而這種震動會使二維振鏡頭的振動電機的運動受到干擾,導致激光蝕刻的軌跡偏離設計的路線,使產品的良品率降低。
發明內容
本實用新型的目的是提供一種防震激光刻蝕機,此防震激光刻蝕機不受外部震動的干擾,工作穩定,產品的良品率高。
為了達到上述目的,本實用新型的防震激光刻蝕機,包括機架、激光器、二維振鏡頭、F-θ透鏡組、XY軸二維運動平臺、吸附平臺、控制系統和計算機系統,XY軸二維運動平臺、吸附平臺、控制系統和計算機系統都安裝在機架上,激光器的激光頭、二維振鏡頭和F-θ透鏡組安裝在XY軸二維運動平臺上,其特征在于:還包括避震器,避震器安裝在機架下方,多個避震器支承著整個防震激光刻蝕機。
因為本實用新型的防震激光刻蝕機包括機架、激光器、二維振鏡頭、F-θ透鏡組、XY軸二維運動平臺、吸附平臺、控制系統、計算機系統和避震器,XY軸二維運動平臺、吸附平臺、控制系統和計算機系統都安裝在機架上,激光器的激光頭、二維振鏡頭和F-θ透鏡組安裝在XY軸二維運動平臺上,避震器安裝在機架下方,多個避震器支承著整個防震激光刻蝕機,而避震器有過慮或減小震動的作用,它能排除或減輕附近的機床啟動、載重汽車的經過、重物的搬運產生震動對二維振鏡頭的振動電機的運動受到干擾,使激光蝕刻的軌跡不至于偏離設計的路線,激光蝕刻機工作穩定,產品的良品率高。
所述的防震激光刻蝕機,其特征在于:避震器為氣墊式避震器。氣墊式避震器避震頻率寬,避震效果好;同時,氣墊式避震器成本低,安裝及維護方便。
所述的防震激光刻蝕機,其特征在于:選取的避震器承載負荷是其實際承載負荷的1.5~2.5倍。
本實用新型的防震激光刻蝕機不受外部震動的干擾,工作穩定,產品的良品率高。
附圖說明
圖1是本實用新型實施例的結構示意圖。
具體實施方式
圖1標記的說明:避震器1,機架2,Y軸運動平臺3,吸附平臺4,F-θ透鏡組5,X軸運動平臺6,二維振鏡頭7,激光器的激光頭8。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢吉事達科技股份有限公司,未經武漢吉事達科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821509020.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





