[實(shí)用新型]金屬液除氫設(shè)備及其轉(zhuǎn)子裝置、分散盤有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821499738.7 | 申請(qǐng)日： | 2018-09-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN209128516U | 公開（公告）日： | 2019-07-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 付東偉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 洛陽新遠(yuǎn)大冶金成套設(shè)備有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C22B9/05 | 分類號(hào)： | C22B9/05;C22B21/06;C22C1/02 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 盤狀主體 分散盤 金屬液 本實(shí)用新型 轉(zhuǎn)子裝置 切割槽 通孔 輻射狀分布 氫氣 分散度 進(jìn)氣量 小氣泡 有效地 貫穿 | ||
本實(shí)用新型提供一種金屬液除氫設(shè)備及其轉(zhuǎn)子裝置、分散盤，所述分散盤包括盤狀主體(21)，所述盤狀主體(21)的中心形成有通孔(211)，所述盤狀主體(21)上形成有貫穿所述盤狀主體(21)的多個(gè)相互間隔的切割槽(210)，多個(gè)所述切割槽(210)以所述通孔(211)為中心呈輻射狀分布。本實(shí)用新型的分散盤，在相同進(jìn)氣量的條件下，可形成數(shù)量更多、體積更小、分散度更好的小氣泡，顯著增大了氣泡與金屬液的接觸面積，能有效地將金屬液中的氫氣溶進(jìn)氣泡內(nèi)，達(dá)到高效除氫目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及金屬冶煉技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種金屬液除氫設(shè)備及其轉(zhuǎn)子裝置、分散盤。
背景技術(shù)
鋁合金等金屬冶煉過程中，金屬液中存在較多氫氣，如果不及時(shí)除去氫氣，會(huì)導(dǎo)致成型后的型材中存在縮孔、縮松等缺陷，而該類缺陷對(duì)于受力結(jié)構(gòu)件來說是致命性缺陷，會(huì)嚴(yán)重降低結(jié)構(gòu)件的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度和壽命。因此，在冶煉過程中必須及時(shí)除去氫氣。
相關(guān)技術(shù)中，使用惰性氣體(如氬氣、氮?dú)獾?經(jīng)轉(zhuǎn)子和分散盤導(dǎo)入金屬液中，通過轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)分散盤旋轉(zhuǎn)，以將氣體分散在金屬液中，利用氣泡浮游原理達(dá)到除氫目的。但是，現(xiàn)有的分散盤結(jié)構(gòu)不合理，氣體不能有效地分散在金屬液中，嚴(yán)重降低了除氫效率。
實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此，本實(shí)用新型實(shí)施例期望提供一種高效除氫的金屬液除氫設(shè)備及其轉(zhuǎn)子裝置、分散盤。
為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型實(shí)施例的第一方面提供一種金屬液除氫設(shè)備的分散盤，所述分散盤包括盤狀主體，所述盤狀主體的中心形成有通孔，所述盤狀主體上形成有貫穿所述盤狀主體的多個(gè)相互間隔的切割槽，多個(gè)所述切割槽以所述通孔為中心呈輻射狀分布。
進(jìn)一步地，每一所述切割槽沿所述盤狀主體的徑向方向延伸。
進(jìn)一步地，所述切割槽從所述盤狀主體半徑的/位置處向所述盤狀主體的邊緣延伸。
進(jìn)一步地，所述盤狀主體具有預(yù)設(shè)厚度，所述切割槽的外側(cè)徑向貫穿所述盤狀主體的下部的外周壁；所述切割槽的外側(cè)與所述盤狀主體的上部的外周壁之間形成有間隔。
進(jìn)一步地，所述分散盤包括凸出于所述盤狀主體下表面的多個(gè)凸筋，多個(gè)所述凸筋以所述通孔為中心呈輻射狀分布。
進(jìn)一步地，所述分散盤包括一體成型于所述通孔周圍的凸緣，所述凸緣凸出于所述盤狀主體的下表面；多個(gè)所述凸筋位于所述凸緣的外側(cè)，且所述凸筋的內(nèi)側(cè)面與所述凸緣的外周間隔設(shè)置。
進(jìn)一步地，所述凸筋的厚度沿徑向向外的方向逐漸減小。
進(jìn)一步地，所述盤狀主體(21)的材質(zhì)為Si3N4，所述盤狀主體(21)的厚度與所述分散盤的直徑的比值為8％-11％。
進(jìn)一步地，所述凸筋的靠近所述盤狀主體的根部與所述盤狀主體圓滑過渡。
進(jìn)一步地，所述凸筋的數(shù)量與所述切割槽的數(shù)量相等，所述凸筋與所述切割槽沿所述盤狀主體的周向相互交替布置。
本實(shí)用新型實(shí)施例的第二方面提供一種金屬液除氫設(shè)備的轉(zhuǎn)子裝置，包括轉(zhuǎn)子以及上述任一種除氫轉(zhuǎn)子裝置的分散盤，所述轉(zhuǎn)子的內(nèi)部形成有沿其軸向延伸的用于供氣體通過的氣流通道，所述轉(zhuǎn)子的下端與所述分散盤固定連接，所述氣流通道與所述通孔連通以將氣體導(dǎo)入所述分散盤的下側(cè)。
本實(shí)用新型實(shí)施例的第三方面提供一種金屬液除氫設(shè)備，包括用于盛裝金屬液的保溫腔以及上述的金屬液除氫設(shè)備的轉(zhuǎn)子裝置，所述轉(zhuǎn)子的下端位于所述金屬液中，所述氣流通道連通氣源。
本實(shí)用新型的分散盤，在相同進(jìn)氣量的條件下，可形成數(shù)量更多、體積更小、分散度更好的小氣泡，顯著增大了氣泡與金屬液的接觸面積，能有效地將金屬液中的氫氣溶進(jìn)氣泡內(nèi)，達(dá)到高效除氫目的。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的轉(zhuǎn)子裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
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