[實(shí)用新型]一種具有高維持電壓的LDMOS結(jié)構(gòu)的ESD保護(hù)器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821494772.5 | 申請日: | 2018-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN208637423U | 公開(公告)日: | 2019-03-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蔡小五;趙發(fā)展;淮永進(jìn);杜寰;黃啟俊;周祥兵 | 申請(專利權(quán))人: | 揚(yáng)州江新電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02 |
| 代理公司: | 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 32102 | 代理人: | 韓素娟 |
| 地址: | 225000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 維持電壓 注入?yún)^(qū) 上層 本實(shí)用新型 電流路徑 深N阱 襯底 陰極 集成電路領(lǐng)域 淺槽隔離區(qū) 陽極 中間區(qū)域 變窄 阻擋 | ||
1.一種具有高維持電壓的LDMOS結(jié)構(gòu)的ESD保護(hù)器件,包括P型襯底,其特征在于:所述P型襯底上層設(shè)有深N阱,所述深N阱上層從一側(cè)到另一側(cè)依次設(shè)有第一N阱、第一P阱、第二N阱和第二P阱,所述第一N阱上層設(shè)有P+注入?yún)^(qū),所述第一P阱上層設(shè)有淺槽隔離區(qū),所述第二P阱上層設(shè)有N+注入?yún)^(qū),所述P+注入?yún)^(qū)引出有陽極,所述N+注入?yún)^(qū)引出有陰極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高維持電壓的LDMOS結(jié)構(gòu)的ESD保護(hù)器件,其特征在于:所述第一N阱的長度大于所述第一P阱、第二N阱和/或第二P阱的長度。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





