[實(shí)用新型]一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821490048.5
• 申請(qǐng)日: 2018-09-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208776778U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇和;王永寧
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津阿瑞斯工業(yè)爐有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C21D1/74
• 分類(lèi)號(hào): C21D1/74;C21D1/773
• 代理公司: 天津諾德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 12213
• 代理人: 欒志超

1.一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，包括密封門(mén)本體、提升裝置和運(yùn)輸軌道，其特征在于：所述運(yùn)輸軌道包括基板，所述基板包括第一基板和第二基板，所述第一基板與所述第二基板平行，所述第一基板頂部與所述第二基板頂部通過(guò)固定鋼板連接，所述第一基板底部與所述第二基板底部通過(guò)傳動(dòng)軸連接，所述第一基板與所述第二基板之間設(shè)有檢修門(mén)，所述第一基板與所述第二基板內(nèi)側(cè)均設(shè)有導(dǎo)軌，所述提升裝置包括上提升鏈輪、下提升鏈輪和鏈條，所述上提升鏈輪置于所述基板頂部，所述下提升鏈輪置于所述傳動(dòng)軸外表面，所述鏈條置于所述上提升鏈輪外表面和所述下提升鏈輪外表面，所述鏈條分別與所述上提升鏈輪和所述下提升鏈輪嚙合，所述密封門(mén)本體安裝在門(mén)框架內(nèi)，所述門(mén)框架頂部連接所述鏈條一端，所述門(mén)框架底部連接所述鏈條另一端，所述提升裝置包括兩組，兩組所述提升裝置分別連接所述門(mén)框架兩端，所述門(mén)框架兩側(cè)面設(shè)有導(dǎo)向輪，所述導(dǎo)向輪與所述導(dǎo)軌配合，所述第二基板底部設(shè)有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過(guò)傳動(dòng)裝置連接傳動(dòng)軸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述固定鋼板中間設(shè)有凹槽，所述凹槽兩邊形成凸臺(tái)，所述第一基板與所述固定鋼板形成的所述凸臺(tái)為第一凸臺(tái)，所述第二基板與所述固定鋼板形成的所述凸臺(tái)為第二凸臺(tái)，所述上提升鏈輪置于所述凸臺(tái)處，所述上提升鏈輪套于提升軸外部，所述提升軸兩端分別連接固定鋼板和基板。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述傳動(dòng)裝置包括電機(jī)鏈輪、提升主鏈輪和軸承組件，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為減速電機(jī)，所述減速電機(jī)上裝有所述電機(jī)鏈輪，所述電機(jī)鏈輪與所述提升主鏈輪嚙合，所述提升主鏈輪置于所述傳動(dòng)軸端頭，所述提升主鏈輪通過(guò)所述軸承組件連接所述傳動(dòng)軸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述密封門(mén)本體為單面弧形，所述密封門(mén)本體包括面板、弧板和筋板，所述弧板置于所述面板內(nèi)表面，所述筋板為多條，所述筋板置于所述面板與所述弧板之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述面板外表面設(shè)有密封件槽，所述密封件槽內(nèi)設(shè)有密封件。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述門(mén)框架通過(guò)鏈條調(diào)節(jié)器連接所述鏈條。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述鏈條調(diào)節(jié)器包括上連接體和下連接體，所述上連接體上設(shè)有通孔，所述下連接體包括左連接體、開(kāi)口槽和右連接體，所述開(kāi)口槽置于所述左連接體和所述右連接體中間，所述左連接體在所述開(kāi)口槽一側(cè)設(shè)有第一鏈條掛槽，所述右連接體在所述開(kāi)口槽一側(cè)設(shè)有第二鏈條掛槽，所述左連接體與所述右連接體以所述開(kāi)口槽為中心對(duì)稱分布，所述第一鏈條掛槽與所述第二鏈條掛槽以所述開(kāi)口槽為中心對(duì)稱分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述門(mén)框架底部設(shè)有限位裝置。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述第一基板底部側(cè)面設(shè)有指示機(jī)構(gòu)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種無(wú)氧化加熱設(shè)備用真空室密封門(mén)裝置，其特征在于：所述檢修門(mén)下部設(shè)有冷卻水通道，所述冷卻水通道為矩形鋼管。