[實用新型]一種應用于RTP的蝕刻工具

有效

• 申請號: 201821486347.1
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN208818975U
• 公開（公告）日: 2019-05-03
• 發明（設計）人: 黃華達
• 申請（專利權）人: 東莞通華液晶有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 東莞市冠誠知識產權代理有限公司 44272
• 代理人: 莫杰華

本實用新型公開了一種應用于RTP的蝕刻工具，該絲印網用于在ITO層表面印刷蝕刻膏，其絲印網由金屬絲縱橫交織而成，形成的網孔密度為320?400個/英寸，線徑為18?30μm，孔徑為39?55μm。本實用新型可以印更細的走線，所以產品的邊框可以更窄，更好的滿足客戶要求。

技術領域

本實用新型涉及LCD的ITO蝕刻技術領域，特別是一種應用于RTP的蝕刻工具。

背景技術

現有的ITO蝕刻工藝主要包括五大工藝步驟，如下：

1）涂膠

涂膠是光刻的首道工序，它是在ITO玻璃表面上涂一層光刻膠，涂膠效果控制好壞直接影響光刻質量，因此在操作時應將光刻膠按要求準備好，并控制好光刻膠的涂層厚度及均勻性、涂層表面狀態等。

2）曝光

曝光就是在涂好光刻膠的玻璃表面覆蓋掩模版，通過紫外光進行選擇性照射，使受光照部位的光刻膠發生化學反應，改變了這部分膠膜在顯影液中的溶解度。顯影后，光刻膠膜顯現出與掩模版相對應的圖形。曝光時間和曝光強度選擇是根據版的質量、光刻膠性質、光源強弱和光源到ITO玻璃的距離等因素來確定。

3）顯影

顯影就是將感光部分的光刻膠溶除，留下未感光部分的膠膜從而顯示所需要的圖形。顯影過程是將曝光后的玻璃放入顯影槽中，顯影液通過搖擺的噴頭噴灑在玻璃的光刻膠面上，過一定時間顯出圖形后，玻璃再通過水洗，將顯影液沖掉。顯影液有兩種，一種是與光刻膠配套的專用顯影液；另一種是一定濃度的堿液（KOH或NaOH）。第二種使用普通些。堿液配置是在專用調制槽中進行，先在槽中注一定量高純水，根據配液濃度稱量一定量的堿放入槽中攪拌，待堿液完全溶解后，將配好的液注入顯影槽中。

4）刻蝕

刻蝕是用一定比例的酸液把玻璃上未受光刻膠保護的ITO膜腐蝕掉，而將有光刻膠保護的ITO膜保存下來，最終形成ITO圖形。選用的腐蝕液必須是能腐蝕掉ITO膠又不能損傷玻璃表面和光刻膠，一般選用一定比例的HC1，HNO3和水的混合液。刻蝕的溫度和時間對刻蝕效果影響很大，兩者的變化也影響到刻蝕速度。速度太快難以控制容易造成過刻蝕；速度太慢需要時間長，則光刻膠抗蝕能力降低，容易出現溶膠現象。一般恒定刻蝕溫度，用時間調整刻蝕效果，刻蝕時間應由刻蝕速度和ITO膜厚來確定，ITO膜越厚刻蝕時間就越長。通過試驗可確定不同ITO膜厚應選用多少刻蝕時間，刻蝕時間的控制對刻蝕效果非常關鍵，時間太短ITO膜刻蝕不凈，圖形會出現短路；時間太長，由于光刻膠抗蝕能力下降，圖形變差或被蝕斷

5）去膜和清洗

去膜就是把刻蝕后玻璃上剩余的光刻膠去掉，清洗是沖洗干凈玻璃表面的殘膠、雜質等。去膜液是用堿液配制而成的，它的堿濃度要高于顯影濃度。去膜是在一定溫度條件下，用堿液沖洗并用滾刷擦洗玻璃以保證將玻璃上殘膠去除凈；清洗是用高純水沖洗玻璃上殘留堿液同時沖洗殘膠，即采用物理和化學方法清洗。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是針對上述現有技術的不足，提供一種應用于RTP的蝕刻工具，使得印刷的蝕刻膏更加順滑和更加細，簡化工藝步驟，提高了工藝效率，并且使用的人工和設備更少，適合RTP生產線的工藝生產。

為解決上述技術問題，本實用新型所采取的技術方案是：一種應用于RTP的蝕刻工具，用于在ITO層表面印刷蝕刻膏，其絲印網由金屬絲縱橫交織而成，形成的網孔密度為320-400個/英寸，線徑為18-30μm，孔徑為39-55μm。

上述技術方案中，所述金屬線為不銹鋼線。

上述技術方案中，縱向所述金屬線相對于刮刀印刷方向的夾角α為22.5±0.5度。