[實用新型]一種用于銀納米線的涂布裝置

有效

• 申請號: 201821484567.0
• 申請日: 2018-09-11
• 公開（公告）號: CN209303092U
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發明（設計）人: 謝禮;關敬黨
• 申請（專利權）人: 深圳市善營自動化股份有限公司
• 主分類號: B05C1/04
• 分類號: B05C1/04;B05C11/10
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281
• 代理人: 郭燕;彭家恩

1.一種用于銀納米線的涂布裝置，其特征在于，包括：

儲料機構，用于靜置銀納米線漿料；

模頭機構，用于將所述銀納米線漿料涂布到基體上；所述模頭機構與儲料機構之間設置有混合組件，和/或模頭機構內設置有擾流型流道；所述混合組件和擾流型流道均用于對流過的所述銀納米線漿料擾流，使銀納米線漿料中的銀納米線排布紊亂。

2.如權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述模頭機構的內部具有用于傳輸所述銀納米線漿料的通道、入料口、空腔室、以及用于涂布銀納米線漿料的出料口，所述入料口通過所述通道依次將空腔室、擾流型流道、出料口串聯連通；所述擾流型流道包括：擾動區，以及連通于所述擾動區的混合區，所述擾動區連通所述空腔室，所述混合區連通所述出料口；所述銀納米線漿料經所述擾動區擾流后，再經所述混合區混合。

3.如權利要求2所述的涂布裝置，其特征在于，所述模頭機構包括相互扣合的上模頭和下模頭；所述上模頭與所述下模頭通過各自的接觸面與對方接觸，其中至少一個所述接觸面上設置有凹槽，所述凹槽和另一個接觸面形成所述擾流型流道。

4.如權利要求2所述的涂布裝置，其特征在于，所述模頭機構包括上模頭、墊片和下模頭，所述上模頭通過所述墊片與下模頭扣合，所述墊片處于所述上模頭和所述下模頭之間；所述上模頭和/或所述下模頭與墊片接觸的接觸面上設置有凹槽，所述凹槽和所述墊片接觸形成所述擾流型流道。

5.如權利要求3或4所述的涂布裝置，其特征在于，所述擾流型流道至少一個側壁上設置有多個并聯的溝道單元，溝道單元用于擾流；所述溝道單元位于所述凹槽的底部或墊片上。

6.如權利要求5所述的涂布裝置，其特征在于，所述溝道單元包括：至少兩個相交匯流的第一溝道和第二溝道，以及設置匯流方向上的第三溝道；所述第一溝道和所述第二溝道的溝道入口連通所述空腔室，用于擾流；所述第一溝道和所述第二溝道的溝道出口匯流并連通所述第三溝道的溝道入口；所述第三溝道的溝道出口與所述混合區連通；所述第三溝道在漿料流動方向上的截面積逐漸增大。

7.如權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，還包括供料泵；所述供料泵的進泵口與所述儲料機構的出口管道連接，所述供料泵的出泵口與所述模頭機構管道連接；所述供料泵用于將所述儲料機構存儲的銀納米線漿料泵送至所述模頭機構。

8.如權利要求7所述的涂布裝置，其特征在于，所述模頭機構與儲料機構之間設置有混合組件，所述供料泵的出泵口通過所述混合組件與所述模頭機構連接；所述混合組件用于使銀納米線漿料中的銀納米線排布紊亂。

9.如權利要求8所述的涂布裝置，其特征在于，所述混合組件為靜態混合器；其包括：內部中空的管體，以及位于所述管體內的導流葉片；所述管體的一端連接所述模頭機構，另一端連接所述供料泵的出泵口；所述導流葉片呈螺旋狀，以在所述管體內形成螺旋通道；所述螺旋通道用于使流過所述管體內的銀納米線漿料中的銀納米線排布紊亂。

10.如權利要求8所述的涂布裝置，其特征在于，所述混合組件包括攪拌器；所述攪拌器用于使所述銀納米線漿料中的銀納米線經攪拌后排布紊亂。