[實用新型]一種SiC功率器件終端有效
| 申請號: | 201821482781.2 | 申請日: | 2018-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN208706654U | 公開(公告)日: | 2019-04-05 |
| 發明(設計)人: | 朱袁正;葉鵬;楊卓;華凌飛 | 申請(專利權)人: | 無錫新潔能股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06;H01L29/861;H01L21/329 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;陳麗麗 |
| 地址: | 214131 江蘇省無錫市濱湖區高浪東路999號*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 第一導電類型 功率器件 導電類型阱 導電類型 場限環 外延層 終端 本實用新型 分立 半導體技術領域 產品合格率 陰極金屬層 交替設置 依次設置 襯底層 鈍化層 | ||
1.一種SiC功率器件終端,其特征在于,所述SiC功率器件終端包括:自下而上依次設置的陰極金屬層(1)、第一導電類型襯底層(2)和第一導電類型外延層(3),所述第一導電類型外延層(3)上設置有多個間隔分立的第二導電類型場限環(5),所述第一導電類型外延層(3)上設置有多個間隔分立的第二導電類型阱區(4),所述第二導電類型阱區(4)與所述第二導電類型場限環(5)交替設置,所述第二導電類型阱區(4)和所述第二導電類型場限環(5)上設置鈍化層(7)。
2.根據權利要求1所述的SiC功率器件終端,其特征在于,所述第二導電類型阱區(4)的深度大于所述第二導電類型場限環(5)的深度。
3.根據權利要求1所述的SiC功率器件終端,其特征在于,所述第二導電類型阱區(4)的雜質濃度低于所述第二導電類型場限環(5)的雜質濃度。
4.根據權利要求1所述的SiC功率器件終端,其特征在于,所述第二導電類型阱區(4)與所述第二導電類型場限環(5)重疊部分區域設置。
5.根據權利要求1所述的SiC功率器件終端,其特征在于,所述第二導電類型阱區(4)與所述第二導電類型場限環(5)分離且相鄰設置。
6.根據權利要求1至5中任意一項所述的SiC功率器件終端,其特征在于,所述第一導電類型外延層(3)的上表面設置氧化保護層(6)。
7.根據權利要求1至5中任意一項所述的SiC功率器件終端,其特征在于,SiC功率器件包括N型SiC功率器件和P型SiC功率器件,當所述SiC功率器件為N型功率器件時,所述第一導電類型為N型,所述第二導電類型為P型,當所述SiC功率器件為P型SiC功率器件時,所述第一導電類型為P型,所述第二導電類型為N型。
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