[實用新型]拋光墊有效
| 申請號： | 201821473729.0 | 申請日： | 2018-09-10 |
| 公開（公告）號： | CN208826319U | 公開（公告）日： | 2019-05-07 |
| 發明（設計）人： | 不公告發明人 | 申請（專利權）人： | 長鑫存儲技術有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/26 | 分類號： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京律智知識產權代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁禮君;闞梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 拋光墊 研磨槽 拋光表面 槽深 漸增 拋光墊中心 邊緣位置 拋光過程 研磨液 拋光 | ||
1.一種拋光墊，具有拋光表面，所述拋光表面上設有研磨槽，其特征在于，所述研磨槽的槽深在由所述拋光墊中心位置至所述拋光墊邊緣位置的方向上漸增。
2.根據權利要求1所述的拋光墊，其特征在于，所述研磨槽的位于所述拋光墊中心位置的部分的槽深，等于所述拋光墊厚度的0.15倍～0.35倍。
3.根據權利要求2所述的拋光墊，其特征在于，所述研磨槽的位于所述拋光墊中心位置的部分的槽深，等于所述拋光墊厚度的0.25倍。
4.根據權利要求1所述的拋光墊，其特征在于，所述研磨槽的位于所述拋光墊邊緣位置的部分的槽深，等于所述拋光墊厚度的0.4倍～0.6倍。
5.根據權利要求4所述的拋光墊，其特征在于，所述研磨槽的位于所述拋光墊邊緣位置的部分的槽深，等于所述拋光墊厚度的0.5倍。
6.根據權利要求1所述的拋光墊，其特征在于，所述拋光墊的厚度為70密耳～90密耳，所述研磨槽的位于所述拋光墊中心位置的部分的槽深為40密耳～45密耳。
7.根據權利要求1所述的拋光墊，其特征在于，所述拋光墊的厚度為70密耳～90密耳，所述研磨槽的位于所述拋光墊邊緣位置的部分的槽深為10密耳～35密耳。
8.根據權利要求1～7任意一項所述的拋光墊，其特征在于，多個所述研磨槽包括多個主研磨槽和多個子研磨槽，多個所述主研磨槽呈網格狀分布并界定出呈陣列分布的多個矩形區域，每個所述矩形區域中分別設有至少一個所述子研磨槽。
9.根據權利要求1～7任意一項所述的拋光墊，其特征在于，所述研磨槽在所述拋光表面上的正投影軌跡呈波浪形，且該波浪形的正投影軌跡符合簡諧運動的運動軌跡。
10.根據權利要求1～7任意一項所述的拋光墊，其特征在于，定義一參考平面，所述參考平面垂直于所述研磨槽的延伸方向，所述研磨槽的槽腔在所述參考平面上的正投影呈倒梯形。
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