[實(shí)用新型]基于自聚焦光纖的折射率傳感器及其制備系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821469172.3
• 申請(qǐng)日: 2018-09-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208795646U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張鳳嬋;徐錫鎮(zhèn);何俊;王義平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N21/01
• 分類號(hào): G01N21/01;G01N21/41
• 代理公司: 深圳市恒申知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44312
• 代理人: 袁文英

1.一種基于自聚焦光纖的折射率傳感器，其特征在于，所述折射率傳感器包括：第一傳輸光纖、自聚焦光纖和第二傳輸光纖；

所述自聚焦光纖固定連接在所述第一傳輸光纖和第二傳輸光纖之間；

所述自聚焦光纖的長(zhǎng)度為所述自聚焦光纖的聚焦周期的二分之一；

所述自聚焦光纖的纖芯一側(cè)具有微腔，且所述微腔位于所述自聚焦光纖軸向的中間位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的折射率傳感器，其特征在于，所述第一傳輸光纖的一端與信號(hào)光的輸出端連接，另一端與所述自聚焦光纖固定連接；

所述第二傳輸光纖的一端與所述自聚焦光纖固定連接，另一端與信號(hào)接收系統(tǒng)連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的折射率傳感器，其特征在于，所述自聚焦光纖、所述第一傳輸光纖和所述第二傳輸光纖為同軸光纖。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的折射率傳感器，其特征在于，所述微腔的長(zhǎng)度為1至1000微米。

5.一種基于自聚焦光纖的折射率傳感器的制備系統(tǒng)，其特征在于，所述制備系統(tǒng)包括：光纖連接裝置、切割設(shè)備、微加工系統(tǒng)、第一傳輸光纖、第二傳輸光纖和自聚焦光纖；

所述光纖連接裝置用于將所述自聚焦光纖的一端與所述第一傳輸光纖固定連接；

所述切割設(shè)備用于在所述自聚焦光纖中與連接端的距離為所述自聚焦光纖的聚焦周期的二分之一的位置進(jìn)行切割，形成切割端，所述連接端為自聚焦光纖的兩端中與所述第一傳輸光纖固定連接的一端；

所述光纖連接裝置還用于將所述自聚焦光纖的切割端與第二傳輸光纖固定連接；

所述微加工系統(tǒng)用于對(duì)所述自聚焦光纖軸向的中間位置進(jìn)行微加工，形成微腔，且所述微腔位于所述自聚焦光纖的纖芯一側(cè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備系統(tǒng)，其特征在于，所述切割設(shè)備包括可移動(dòng)的位移平臺(tái)和切割裝置；

所述位移平臺(tái)用于放置已與所述第一傳輸光纖固定連接的自聚焦光纖；

所述切割裝置用于對(duì)所述自聚焦光纖進(jìn)行切割，形成切割端，所述切割裝置在所述自聚焦光纖的切割位置與所述自聚焦光纖的連接端的距離為所述自聚焦光纖的聚焦周期的二分之一。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備系統(tǒng)，其特征在于，所述微加工系統(tǒng)包括：飛秒激光刻蝕系統(tǒng)、飛秒激光折射率誘導(dǎo)及氫氟酸腐蝕系統(tǒng)和離子束刻蝕系統(tǒng)中的任意一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備系統(tǒng)，其特征在于，所述第一傳輸光纖的一端與信號(hào)光的輸出端連接，另一端與所述自聚焦光纖固定連接；

所述第二傳輸光纖的一端與所述自聚焦光纖固定連接，另一端與信號(hào)接收系統(tǒng)連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備系統(tǒng)，其特征在于，所述自聚焦光纖、所述第一傳輸光纖和所述第二傳輸光纖為同軸光纖。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備系統(tǒng)，其特征在于，所述制備系統(tǒng)還包括切口處理裝置，所述切口處理裝置用于將所述自聚焦光纖的兩端進(jìn)行切平處理。