[實用新型]基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標

有效

• 申請號: 201821461809.4
• 申請日: 2018-09-06
• 公開（公告）號: CN208765851U
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發明（設計）人: 李傳榮;錢永剛;邱實;高同;錢曉波;馬靈玲;王寧;李坤;劉耀開;陳志明;唐伶俐
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電研究院
• 主分類號: G01J5/00
• 分類號: G01J5/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張成新

1.一種基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標包括：

溫控箱體，所述溫控箱體包括側壁和連接至所述側壁的底壁；以及

微管陣列吸收組件，所述微管陣列吸收組件在所述溫控箱體內設置于所述側壁和所述底壁上，所述微管陣列吸收組件為蜂窩狀結構，在所述蜂窩狀結構的內壁表面上涂覆漫反射涂層。

2.根據權利要求1所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述溫控箱體的所述側壁和所述底壁從外到內分別依次包括防護層、保溫層、加熱層和所述微管陣列吸收組件。

3.根據權利要求2所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，在所述加熱層中設置有電加熱管，通過所述電加熱管對所述側壁和所述底壁進行加熱。

4.根據權利要求3所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述加熱層包括鑄鋁層。

5.根據權利要求1所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述微管陣列吸收組件包括微管腔陣列，所述微管腔陣列為正六邊體結構。

6.根據權利要求1所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述漫反射涂層為黑色。

7.根據權利要求1所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述定標靶標還包括位于其出射口處的孔徑光闌，用于限制所述定標靶標的出口有效面積。

8.根據權利要求1所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述溫控箱體包括相對地設置在所述側壁上的兩個防護門。

9.根據權利要求8所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述防護門設置成所述側壁的一部分，每個所述防護門通過鉸鏈連接至所述側壁。

10.根據權利要求9所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述防護門上設置有開關裝置，所述開關裝置包括螺柱和圓盤搖把。

11.根據權利要求2所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述溫控箱體還包括溫控系統，所述溫控系統包括控溫探頭和測溫探頭，所述控溫探頭設置在所述加熱層中，所述測溫探頭設置在所述微管陣列吸收組件中。

12.根據權利要求11所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，將每個側壁均分為上下兩個溫度控制區域，將底壁均分為四個溫度控制區域，所述溫控系統對每個溫度控制區域采用單獨的控制器控制。

13.根據權利要求1所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述溫控系統還包括數據顯示與采集裝置，所述數據顯示與采集裝置設置在所述側壁之一上。

14.根據權利要求1所述的基于微管吸收技術的大面源紅外遙感輻射定標靶標，其特征在于，所述定標靶標還包括底座，所述溫控箱體設置在所述底座上，所述底座能夠移動；所述底座包括用于支撐所述溫控箱體的多個支撐腿。