[實用新型]一種多功能磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201821455566.3
• 申請日: 2018-09-06
• 公開（公告）號: CN208803137U
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 王燕麗;王昕濤
• 申請（專利權）人: 東莞市典雅五金制品有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56;C23C14/52;C23C14/54
• 代理公司: 東莞眾業知識產權代理事務所(普通合伙) 44371
• 代理人: 何恒韜

本實用新型公開一種多功能磁控濺射鍍膜裝置，包括機架、真空鍍膜室、上法蘭、下法蘭、可伸縮的磁控靶和可加熱、旋轉及上下移動的基片架，所述真空鍍膜室裝設于機架上，所述磁控靶和基片架均設于真空鍍膜室內，所述上法蘭和下法蘭設于真空鍍膜室的上下兩端，所述基片架安裝于上法蘭上，所述磁控靶為三個，三個磁控靶傾斜固定安裝于下法蘭上，三個磁控靶均朝向基片架，所述磁控靶與下法蘭的垂直線成一定角度。本實用新型具有三個磁控靶，既能實現單靶沉積，也能實現三靶沉積，有利于制備復合金屬膜，且能提高鍍膜質量，有效提高鍍膜的沉積效率。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，特別涉及一種多功能磁控濺射鍍膜裝置。

背景技術

磁控濺射設備是一種常見的物理氣相沉積設備，已經成功應用于各種薄膜的制備工藝。大部分傳統的磁控濺射設備只包含一個濺射靶，工作時腔體內只能安裝一種濺射把材料，若要用這樣的設備沉積不同種薄膜材料，則需要打開主腔體，對靶材進行拆除與安裝，不僅效率低下，同時也很難獲得穩定的生長工藝。這種設備只能滿足長期濺射一種薄膜材料的需求，不利于制備復合膜；傳統的磁控濺射設備中的基片架僅能對基片進行加熱，不能同時旋轉，這樣在膜層沉積的過程中會導致基片加熱不均勻，影響鍍膜質量；因基片與靶材之間的距離是固定的，如此鍍膜的沉積效率較低。

發明內容

本實用新型要解決的技術問題是，針對上述現有技術中的不足，提供一種多功能磁控濺射鍍膜裝置，其具有三個磁控靶，既能實現單靶沉積，也能實現三靶沉積，有利于制備復合金屬膜，且能提高鍍膜質量，有效提高鍍膜的沉積效率。

為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是：

一種多功能磁控濺射鍍膜裝置，包括機架、真空鍍膜室、上法蘭、下法蘭、可伸縮的磁控靶和可加熱、旋轉及上下移動的基片架，所述真空鍍膜室裝設于機架上，所述磁控靶和基片架均設于真空鍍膜室內，所述上法蘭和下法蘭設于真空鍍膜室的上下兩端，所述基片架安裝于上法蘭上，所述磁控靶為三個，三個磁控靶傾斜固定安裝于下法蘭上，三個磁控靶均朝向基片架，所述磁控靶與下法蘭的垂直線成一定角度。

作為一種優選方案，所述多功能磁控濺射鍍膜裝置還包括固定架、導桿、滑座、傳動軸、主動齒輪、傳動齒輪和驅動基片架旋轉的驅動電機，所述固定架與上法蘭固定連接，所述導桿固定安裝于固定架上，所述滑座滑動安裝于導桿上，所述驅動電機固定安裝于滑座上，所述基片架與傳動軸的一端固定連接，所述傳動軸的另一端穿過固定架與傳動齒輪固定連接，所述主動齒輪與驅動電機的輸出軸固定連接，所述主動齒輪和傳動齒輪相互嚙合。

作為一種優選方案，所述基片架內裝設有用于將基片加熱的加熱器和用于檢測基片溫度的熱電偶傳感器，所述滑座上固定安裝有溫控器，所述加熱器和熱電偶傳感器均與溫控器電連接，所述基片架的外側周圍裝設有熱屏蔽件。

作為一種優選方案，所述磁控靶包括基座、靶座和推桿，所述基座傾斜固定安裝于下法蘭上，所述靶座與推桿固定連接，所述推桿通過軸承滑動安裝于基座上。

作為一種優選方案，所述推桿和靶座之間設有水冷塊。

作為一種優選方案，所述靶座的前端設有擋板。

作為一種優選方案，所述磁控靶與下法蘭的垂直線所成角度為30°。

作為一種優選方案，所述多功能磁控濺射鍍膜裝置還包括抽真空系統，所述抽真空系統包括機械泵和分子泵，所述機械泵用于對真空鍍膜室進行一級抽真空，所述機械泵的進氣口連通分子泵的出氣口；所述分子泵用于對真空鍍膜室進行二級抽真空，所述分子泵的進氣口連通真空鍍膜室的出氣口。

作為一種優選方案，所述分子泵和真空鍍膜室之間設置有閘板閥。

作為一種優選方案，所述真空鍍膜室設有觀察窗。