[實用新型]一種鑭熱還原法制備的金屬靶材裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821452875.5
• 申請日: 2018-09-06
• 公開（公告）號: CN208844177U
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設計）人: 賈勝利;張振宇;郝志慶;杜德操
• 申請（專利權）人: 包頭市鑭系新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C22B5/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鑭熱還原法制備的金屬靶材裝置，包括稀土氧化物，金屬鑭碎屑，不銹鋼模具，坩堝，真空還原爐，靶模，其特征在于所述不銹鋼模具中設有稀土氧化物與金屬鑭碎屑的混合物；所述混合物在不銹鋼模具中被1000×105Pa -10000×105Pa的壓制壓力壓制成塊狀，形成成型板坯；所述板坯設置在坩堝中；所述真空還原爐中設有坩堝，在真空還原爐的頂蓋上設有圓環(huán)，圓環(huán)邊側對稱的設有固定螺栓，在圓環(huán)上還對稱的設有用于吻合靶模的凹槽；且靶模位于坩堝的中央頂部，在靶模口處固定廣口收集器，且靶模倒置固定在真空還原爐頂部的圓環(huán)內；所述真空還原爐內真空度為10-3Pa，真空還原爐內溫度為加熱1000-1500℃；

所述靶模為兩個對扣的半圓桶結構，且在半圓桶兩側設有固定板，固定板上設有通孔；所述固定板通過螺栓可拆卸的對扣固定。

2.根據權利要求1所述的一種鑭熱還原法制備的金屬靶材裝置，其特征在于：所述靶模為耐高溫金屬材質。

3.根據權利要求1所述的一種鑭熱還原法制備的金屬靶材裝置，其特征在于：所述坩堝材質為鈦、鉭、鉬、鎢、石墨中的任意一種。

4.根據權利要求1所述的一種鑭熱還原法制備的金屬靶材裝置，其特征在于：所述金屬靶材加工成圓盤狀、圓柱形或長條狀，表面應清潔光滑，無指痕，無油污和銹蝕，外觀尺寸偏差±0.1-0.15mm,表面粗糙度Ra不大于1.6μm。