[實用新型]一種用于單晶爐的旋閥

有效

• 申請號: 201821439931.1
• 申請日: 2018-09-03
• 公開（公告）號: CN208703151U
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發明（設計）人: 陳世斌
• 申請（專利權）人: 北京北方華創真空技術有限公司
• 主分類號: F16K3/06
• 分類號: F16K3/06;F16K31/12;F16K31/44
• 代理公司: 北京維正專利代理有限公司 11508
• 代理人: 羅煥清

本實用新型提供了一種用于單晶爐的旋閥，包括管道部和容納部，所述管道部呈圓柱狀，所述容納部與所述管道部連接，所述管道部底部設置有旋蓋，所述管道部的頂部敞口設置，所述管道部遠離所述容納部的一側為半圓形的擋壁，所述容納部為中空的矩形盒狀結構，所述容納部與所述管道部連通；所述容納部上設置有用于控制所述旋蓋打開的驅動裝置，所述驅動裝置包括用于控制所述旋蓋升降的升降機構以及用于控制所述旋蓋在水平方向上擺動的擺動機構；所述容納部內還設置有清理裝置，所述清理裝置包括設置在所述容納部內壁的圓輥，所述圓輥外包裹有清潔棉，清潔棉可以對容納部的內壁進行清掃。在實現自動開啟旋蓋的同時，方便對容納部的內壁進行清理。

技術領域

本實用新型涉及單晶爐生產設備技術領域，具體涉及一種用于單晶爐的旋閥。

背景技術

現有技術中位于單晶爐主副室之間的翻板閥采用直立旋轉式開合結構。若要打開閥蓋，需要通過操作擺臂沿擺臂末端的支點旋構轉，將中心緊固在擺臂另一端的閥蓋掀起。上述結構為了實現閥的開閉功能，所需要的空間較大；在單晶爐設備總高度不變的前提下，上述結構限制了單晶爐設備中副室的設計高度，間接影響到副室中生成單晶棒的長度，進而影響到單晶的生產效率。

發明內容

一種用于單晶爐的旋閥，包括管道部和容納部，所述管道部呈圓柱狀，所述容納部與所述管道部連接，所述管道部底部設置有旋蓋，所述管道部的頂部敞口設置，所述管道部遠離所述容納部的一側為半圓形的擋壁，所述容納部為中空的矩形盒狀結構，所述容納部與所述管道部連通；所述容納部上設置有用于控制所述旋蓋打開的驅動裝置，所述驅動裝置包括用于控制所述旋蓋升降的升降機構以及用于控制所述旋蓋在水平方向上擺動的擺動機構；

所述升降機構包括設置在所述容納部上的第一氣缸，所述第一氣缸的輸出端連接有升降桿，所述升降桿與所述旋蓋所在的平面垂直；所述升降桿底端轉動連接有連接軸，所述連接軸與所述升降桿同向設置，所述連接軸上固定連接有擺動桿，所述擺動桿向所述旋蓋的圓中心位置處延伸，并且所述擺動桿與所述旋蓋固定連接；所述擺動機構包括第二氣缸，所述第二氣缸的輸出端連接有用于控制所述連接軸轉動的套環，所述套環的一端與所述第二氣缸鉚接用銷軸連接，所述套環的另一端套接在所述連接軸外，并且所述套環與所述連接軸之間設置有用于阻止所述連接軸與所述套環相對轉動的卡接機構；

所述容納部內還設置有清理裝置，所述清理裝置包括設置在所述容納部內壁的圓輥，所述圓輥外包裹有清潔棉，所述容納部的內壁設置有T形槽，所述T形槽內設置有與所述T形槽滑動連接的控制桿，所述控制桿與所述圓輥固定連接。

進一步的，所述圓輥的長度等于所述容納部的寬度。

進一步的，所述控制桿上設置有支架，所述圓輥的中心軸轉動連接在所述支架上，并且所述支架上設置有用于驅動所述圓輥轉動的電機。

進一步的，所述容納部的側壁在靠近所述管道部一端連接有支撐板，所述支撐板向所述容納部之外伸出，所述第一氣缸固定連接在所述支撐板上。

進一步的，所述卡接機構包括設置在所述連接軸上的滑槽，所述滑槽呈長條形，并且所述滑槽沿所述連接軸的長度方向延伸；所述套環與所述滑槽使用的凸塊連接，所述凸塊插入所述滑槽內并能在所述滑槽內滑動。

進一步的，所述容納部遠離所述管道部一側設置有維修蓋，所述維修蓋呈矩形，所述維修蓋的一邊與所述容納部鉸接，所述維修蓋的另一邊與所述容納部之間通過開關機構與所述容納部固定。

進一步的，所述管道部遠離所述容納部的一側設置有觀察窗。

進一步的，所述管道部的擋壁為雙層結構，所述擋壁內具有空腔；所述擋壁的上端設置有環狀的第一法蘭，所述管道部的下端設置有環狀的第二法蘭，所述擋壁的空腔通過所述第一法蘭和所述第二法蘭密封，并且所述擋壁上設置有若干個與所述空腔連通的水管接頭

需要說明的是，本發明提供的技術方案不需要同時達到上述所有技術效果。