[實(shí)用新型]一種微電解塔

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821437898.9
• 申請(qǐng)日: 2018-09-03
• 公開（公告）號(hào): CN208802874U
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 包向明;潘海龍;張琪;錢云飛;高甲義;杭小建;朱亮;孫健
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇泰源環(huán)保科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C02F1/461
• 分類號(hào): C02F1/461;C02F103/30
• 代理公司: 蘇州國(guó)誠(chéng)專利代理有限公司 32293
• 代理人: 李思睿

1.一種微電解塔，其特征在于，包括：

塔體，所述塔體內(nèi)限定有處理腔，所述塔體的側(cè)壁上具有分別連通所述處理腔且自下而上布置的進(jìn)氣口、進(jìn)水口和出水口，在水平面上，所述進(jìn)氣口的軸線的投影與所述進(jìn)水口的軸線的投影呈120°夾角，所述處理腔的上部形成有溢流堰，所述溢流堰上設(shè)有上端為鋸齒狀的溢流板，所述出水口位于所述溢流堰的底面與所述溢流板的上端之間；

填料支架，所述填料支架水平地設(shè)在所述處理腔內(nèi)且所述填料支架在所述進(jìn)水口的上面鄰近所述進(jìn)水口；

布?xì)庵鞴埽霾細(xì)庵鞴茉O(shè)在所述處理腔內(nèi)且位于所述填料支架的下面，所述布?xì)庵鞴苎厮鲞M(jìn)氣口的軸線延伸，所述布?xì)庵鞴艿囊欢伺c所述進(jìn)氣口相連且所述布?xì)庵鞴艿牧硪欢朔忾]；

多個(gè)布?xì)庵Ч埽鄠€(gè)所述布?xì)庵Ч茉O(shè)在所述處理腔內(nèi)且位于所述填料支架的下面，多個(gè)所述布?xì)庵Ч芫坏嘏c所述布?xì)庵鞴芟噙B且多個(gè)所述布?xì)庵Ч苤g兩兩平行，每個(gè)所述布?xì)庵Ч苌暇哂芯鶆蜷g隔布置的氣孔；

篩板，所述篩板設(shè)在所述處理腔內(nèi)且位于所述填料支架的上面，所述篩板上形成有多個(gè)通孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電解塔，其特征在于，多個(gè)所述通孔在所述篩板上布置成多行，任一行上的多個(gè)通孔與相鄰一行上的多個(gè)通孔均交錯(cuò)布置，其中，任一行上的相鄰兩個(gè)通孔與相鄰一行上位于該兩個(gè)通孔之間的通孔，三者的圓心的連線構(gòu)成正三角形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的微電解塔，其特征在于，每個(gè)所述通孔的孔徑為24mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電解塔，其特征在于，所述塔體的側(cè)壁上還設(shè)有連通所述處理腔的第一檢修孔和第二檢修孔，所述第一檢修孔位于所述填料支架的下面，所述第二檢修孔位于所述填料支架的上面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電解塔，其特征在于，所述塔體的側(cè)壁上還設(shè)有連通所述處理腔的排空口，所述排空口位于所述填料支架的下面且鄰近所述塔體的底部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電解塔，其特征在于，所述塔體的側(cè)壁上還設(shè)有連通所述處理腔的溢流口，所述溢流口位于所述溢流板的上面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電解塔，其特征在于，還包括與所述布?xì)庵鞴芟鄬?duì)應(yīng)的第一連接件以及與多個(gè)所述布?xì)庵Ч芤灰粚?duì)應(yīng)的多個(gè)第二連接件，所述第一連接件設(shè)在所述填料支架上以用于固定連接所述布?xì)庵鞴埽鄠€(gè)所述第二連接件均設(shè)在所述填料支架上以用于對(duì)應(yīng)地固定連接多個(gè)所述布?xì)庵Ч堋?/p>