[實(shí)用新型]曝光機(jī)的光源更換系統(tǒng)以及曝光機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821431456.3 | 申請(qǐng)日： | 2018-08-31 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN208737218U | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-04-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳利峰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 430079 湖北省武漢市*** | 國(guó)省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 室內(nèi) 曝光機(jī) 光源 導(dǎo)軌移動(dòng) 光源更換 導(dǎo)軌 腔室 工作腔 測(cè)試腔室 工作腔室 光源測(cè)試 生產(chǎn)效率 相鄰設(shè)置 測(cè)試腔 曝光燈 停機(jī) 申請(qǐng) | ||
1.一種曝光機(jī)的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，包括：
腔室，所述腔室包括相鄰設(shè)置的工作腔室、測(cè)試腔室以及更換腔室，所述工作腔室內(nèi)設(shè)置有第一光源，所述更換腔室內(nèi)設(shè)置有第二光源；以及
導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌設(shè)置在所述腔室內(nèi)；其中，
所述第一光源可沿著所述導(dǎo)軌移動(dòng)至所述更換腔室內(nèi)，所述第二光源可沿著所述導(dǎo)軌移動(dòng)至所述測(cè)試腔室內(nèi)，待所述第二光源測(cè)試通過(guò)后再沿著所述導(dǎo)軌移動(dòng)至所述工作腔室內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，所述工作腔室與所述測(cè)試腔室并排設(shè)置，且所述更換腔室設(shè)置在所述工作腔室與測(cè)試腔室上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)軌為環(huán)形導(dǎo)軌。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，所述腔室內(nèi)還設(shè)置有第一移動(dòng)板、第二移動(dòng)板和第三移動(dòng)板；其中，所述第一移動(dòng)板設(shè)置在所述工作腔室與所述更換腔室之間，所述第二移動(dòng)板設(shè)置在所述測(cè)試腔室與所述更換腔室之間，所述第三移動(dòng)板設(shè)置在所述工作腔室與所述測(cè)試腔室之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，所述第一移動(dòng)板包括第一移動(dòng)部以及第一固定部，所述第二移動(dòng)板包括第二移動(dòng)部和第二固定部，所述第三移動(dòng)板包括第三移動(dòng)部和第三固定部；其中，所述第一固定部上設(shè)置有第一過(guò)孔，所述第二固定部設(shè)置有第二過(guò)孔，所述第三固定部設(shè)置有第三過(guò)孔，所述導(dǎo)軌沿著所述第一過(guò)孔、第二過(guò)孔以及第三過(guò)孔設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，所述第一光源包括第一滑動(dòng)部以及設(shè)置在所述第一滑動(dòng)部一側(cè)的第一發(fā)光部，所述第二光源包括第二滑動(dòng)部以及設(shè)置在所述第二滑動(dòng)部一側(cè)的第二發(fā)光部；
其中，所述第一滑動(dòng)部和第二滑動(dòng)部均設(shè)置在所述導(dǎo)軌上，以使所述第一光源可沿著所述導(dǎo)軌移動(dòng)至所述更換腔室內(nèi)，所述第二光源可沿著所述導(dǎo)軌移動(dòng)至所述測(cè)試腔室內(nèi)，待所述第二光源測(cè)試通過(guò)后再沿著所述導(dǎo)軌移動(dòng)至所述工作腔室內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，所述工作腔室內(nèi)還設(shè)置有反射器，以及設(shè)置在所述工作腔室外的接收器；其中，所述反射器用于將所述第一光源發(fā)出的光線反射至所述接收器上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，所述測(cè)試腔室內(nèi)還設(shè)置有一測(cè)試單元；
所述測(cè)試單元用于測(cè)試移動(dòng)至所述測(cè)試腔室內(nèi)的第二光源，以使所述測(cè)試腔室內(nèi)的第二光源的參數(shù)達(dá)到預(yù)設(shè)參數(shù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源更換系統(tǒng)，其特征在于，所述第一光源與第二光源的形狀、大小均一致。
10.一種曝光機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的光源更換系統(tǒng)。
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