[實用新型]壓膜裝置及真空壓膜機

有效

• 申請號: 201821427326.2
• 申請日: 2018-08-30
• 公開（公告）號: CN208946676U
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發明（設計）人: 計曉東;沈洪;李曉華
• 申請（專利權）人: 上達電子（深圳）股份有限公司
• 主分類號: B29C63/02
• 分類號: B29C63/02;B29L31/34
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 張全文

1.壓膜裝置，包括用于收放基材的基材收放裝置、分別用于收放上覆膜與下覆膜的兩覆膜收放裝置，以及設于所述基材移動路徑上用于將所述上覆膜與所述下覆膜分別壓合于所述基材上表面與下表面的壓膜組件，其特征在于：還包括設于所述基材移動路徑上且位于所述壓膜組件上游的基材限位裝置，以及分別設于所述上覆膜移動路徑及所述下覆膜移動路徑上的覆膜限位裝置。

2.如權利要求1所述的壓膜裝置，其特征在于：所述基材限位裝置包括用于支撐所述基材的基材限位輥以及兩個套設在所述基材限位輥上、用于限制基材寬度方向位置的基材限位盤。

3.如權利要求2所述的壓膜裝置，其特征在于：所述基材限位輥上設置有用于調節兩所述基材限位盤相對位置的第一調節裝置。

4.如權利要求1所述的壓膜裝置，其特征在于：所述覆膜限位裝置包括用于支撐所述上覆膜或者下覆膜的覆膜限位輥以及兩個套設在所述覆膜限位輥、用于限制所述上覆膜或者下覆膜的寬度方向位置的覆膜限位盤。

5.如權利要求4所述的壓膜裝置，其特征在于：所述覆膜限位輥上設置有用于調節兩所述覆膜限位盤相對位置的第二調節裝置。

6.如權利要求1所述的壓膜裝置，其特征在于：所述基材收放裝置包括平行設置且用于釋放所述基材的基材放卷輪以及用于收取壓膜后基材的基材收卷輪。

7.如權利要求1所述的壓膜裝置，其特征在于：所述覆膜收放裝置包括用于釋放上覆膜或者下覆膜的覆膜放卷輪以及與所述覆膜放卷輪配合用于張緊所述上覆膜或者下覆膜的覆膜收卷輪。

8.如權利要求1所述的壓膜裝置，其特征在于：所述壓膜組件包括用于將所述上覆膜以及所述下覆膜壓緊貼合在基材的兩面的上熱壓滾輪以及下熱壓滾輪。

9.真空壓膜機，包括具有容置腔的殼體以及與所述殼體連通的真空泵，其特征在于：還包括設于所述容置腔內的如權利要求1至8中任一項所述的壓膜裝置。

10.如權利要求9所述的真空壓膜機，其特征在于：還包括設置在所述殼體上、用于讀取所述真空泵的壓強數值的真空壓力表。