[實用新型]一種新型氣相沉積法制備石墨烯的生產裝置有效
| 申請號: | 201821414463.2 | 申請日: | 2018-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN209010597U | 公開(公告)日: | 2019-06-21 |
| 發明(設計)人: | 李朝陽;張留新;樊利芳;阮詩倫;王新宇 | 申請(專利權)人: | 鄭州大工高新科技有限公司;大連理工大學重大裝備設計與制造鄭州研究院 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;C01B32/186 |
| 代理公司: | 鄭州浩德知識產權代理事務所(普通合伙) 41130 | 代理人: | 邊鵬 |
| 地址: | 450000 河南省鄭州市自貿試驗區*** | 國省代碼: | 河南;41 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 傳送架體 石墨烯 本實用新型 傳送裝置 氣相沉積 生產裝置 傳送帶 規?;a 氣相反應 機械手 后邊緣 順時針 傳動 污染 生產 | ||
1.一種新型氣相沉積法制備石墨烯的生產裝置,包括傳送架體、設置在傳送架體上的傳送裝置、設置在傳送架體的后邊緣處的氣相反應窯、以及設置在傳送架體前方的機械手,其特征在于:所述的傳送裝置包括傳送架體上設置的一圈傳送帶,所述的傳送帶沿著傳送架體的邊緣圍成一圈和沿著傳送架體的邊緣進行順時針傳動,所述的氣相反應窯包括沿著傳送架體的后邊緣從左到右依次設置有窯體預熱區、窯體加熱反應區以及冷卻區,所述的傳送架體的后邊緣處的傳送帶依次穿過窯體預熱區、窯體加熱反應區以及冷卻區,所述的窯體預熱區上設置有保護氣體入口,所述的窯體加熱反應區上設置有反應氣體入口,所述的冷卻區上設置有冷卻氣體入口,所述的機械手用于向傳送帶上裝載半成品基材和從傳送帶上卸載碼垛成品。
2.根據權利要求1所述的一種新型氣相沉積法制備石墨烯的生產裝置,其特征在于:所述的機械手的左側為上料區,所述的上料區用于堆放半成品基材,所述的機械手的左側為成品卸載區,所述的成品卸載區用于堆放成品。
3.根據權利要求1所述的一種新型氣相沉積法制備石墨烯的生產裝置,其特征在于:所述的窯體預熱區左側設置有半成品入口,所述的傳送架體的后邊緣處的傳送帶通過半成品入口穿入窯體預熱區,所述的半成品入口處匹配設置有窯門一,所述窯門一匹配滑動安裝在窯體預熱區上,所述的窯門一上下滑動。
4.根據權利要求1所述的一種新型氣相沉積法制備石墨烯的生產裝置,其特征在于:所述的冷卻區右側設置有成品出口,所述的傳送架體的后邊緣處的傳送帶通過成品出口穿出冷卻區,所述的成品出口處匹配設置有窯門二,所述窯門二匹配滑動安裝在冷卻區上,所述的窯門二上下滑動。
5.根據權利要求1所述的一種新型氣相沉積法制備石墨烯的生產裝置,其特征在于:還包括廢氣處理裝置,所述的廢氣處理裝置經過管道與窯體預熱區、窯體加熱反應區和冷卻區均連通,所述的窯體預熱區、窯體加熱反應區和冷卻區中的廢氣經管道進入廢氣處理裝置內被集中環保處理。
6.根據權利要求1所述的一種新型氣相沉積法制備石墨烯的生產裝置,其特征在于:所述的冷卻區上設置有熱廢氣出口,所述的熱廢氣出口通過管道與窯體預熱區相連通。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于鄭州大工高新科技有限公司;大連理工大學重大裝備設計與制造鄭州研究院,未經鄭州大工高新科技有限公司;大連理工大學重大裝備設計與制造鄭州研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821414463.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種金屬有機化合物供料控制系統
- 下一篇:化學氣相沉積設備
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





