[實(shí)用新型]制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的水冷模具和裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821412140.X
• 申請(qǐng)日: 2018-08-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208787476U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張磊;郭校亮;陳良杰;劉勛海
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 青島藍(lán)光晶科新材料有限公司
• 主分類號(hào): B22D11/04
• 分類號(hào): B22D11/04;B22D11/055;B22D11/14;B22D11/10
• 代理公司: 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 37212
• 代理人: 鞏同海

1.一種制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的水冷模具，其特征在于，包括中心部分和外圍部分，中心部分包括第一水冷盤(1)，外圍部分包括第二水冷盤(2)，第二水冷盤(2)設(shè)有第一通孔，所述第一通孔的孔徑大于第一水冷盤(1)的外徑，第一水冷盤(1)放置在第一通孔中，第一水冷盤(1)外徑和第一通孔內(nèi)徑之間的空間為儲(chǔ)液區(qū)(3)；所述外圍部分和中心部分均設(shè)有冷卻水通路(4)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的水冷模具，其特征在于，所述中心部分還包括固定于第一水冷盤(1)下方的管狀件(7)，所述冷卻水通路(4)開(kāi)設(shè)于管狀件(7)內(nèi)部并通入第一水冷盤(1)內(nèi)部。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的水冷模具，其特征在于，所述第一水冷盤(1)為圓形水冷盤，第二水冷盤(2)為環(huán)狀水冷盤，所述第一水冷盤(1)和第二水冷盤(2)呈同心圓設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的水冷模具，其特征在于，所述管狀件(7)沿軸向開(kāi)設(shè)有進(jìn)水孔(5)，進(jìn)水孔(5)的周圍設(shè)有環(huán)形出水孔(6)，進(jìn)水孔(5)和環(huán)形出水孔(6)通過(guò)第一水冷盤(1)內(nèi)部的冷卻水通路(4)連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的水冷模具，其特征在于，所述第一水冷盤(1)的上棱邊和第二水冷盤(2)第一通孔的上棱邊設(shè)有倒角(20)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的水冷模具，其特征在于，所述第一水冷盤(1)的厚度和第二水冷盤(2)的厚度為80mm-120mm，第一水冷盤(1)的厚度和第二水冷盤(2)的厚度相同。

7.一種制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6所述的水冷模具。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，還包括爐體(8)、送料機(jī)構(gòu)(9)、坩堝(10)、水冷拉錠機(jī)構(gòu)(11)、電子槍(12)、真空系統(tǒng)和充氣結(jié)構(gòu)(13)，所述爐體(8)分為爐室和電子槍室，真空系統(tǒng)和充氣結(jié)構(gòu)(13)分別與爐室和電子槍室相連；坩堝(10)設(shè)于爐室內(nèi)部，送料機(jī)構(gòu)(9)的送料口設(shè)于坩堝(10)上方，坩堝(10)的出流口(14)設(shè)于水冷模具的儲(chǔ)液區(qū)(3)的上方，坩堝(10)和水冷模具的上方設(shè)有電子槍(12)，水冷模具的外圍部分和中心部分固定于爐室內(nèi)部；水冷拉錠機(jī)構(gòu)(11)包括臺(tái)面(1101)和與臺(tái)面(1101)固定連接的支座(1102)，所述臺(tái)面(1101)設(shè)于第二水冷盤(2)和第一水冷盤(1)的下方。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述臺(tái)面(1101)和支座(1102)開(kāi)設(shè)有可供管狀件(7)穿過(guò)的第二通孔。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備旋轉(zhuǎn)難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述真空系統(tǒng)包括爐室真空系統(tǒng)和電子槍真空系統(tǒng)，所述爐室真空系統(tǒng)與爐室相連，所述電子槍真空系統(tǒng)與電子槍室相連，爐室真空系統(tǒng)包括機(jī)械泵(15)、羅茨泵(16)和擴(kuò)散泵(17)，電子槍真空系統(tǒng)包括機(jī)械泵(15)、羅茨泵(16)和分子泵(18)。