[實用新型]一種硅片甩干機停機轉軸自復位機構

有效

• 申請號: 201821409256.8
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN209042898U
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: 歐陽小泉
• 申請（專利權）人: 無錫泉一科技有限公司
• 主分類號: F26B5/08
• 分類號: F26B5/08;F26B25/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開一種硅片甩干機停機轉軸自復位機構，其包括橫向布置的伺服無刷直驅電機和復位氣缸，所述伺服無刷直驅電機的輸出軸通過聯軸器與甩干機的轉軸連接，所述聯軸器上安裝有自復位定位凸輪，所述自復位定位凸輪上設置有定位凹槽，所述復位氣缸的活塞桿端部安裝有定位滾輪，甩干機停機后，所述復位氣缸驅動定位滾輪緊貼自復位定位凸輪的輪面，由定位滾輪帶動自復位定位凸輪轉動，直至定位滾輪卡于定位凹槽后自復位定位凸輪停止轉動。上述硅片甩干機停機轉軸自復位機構無需采用定制電機，節省了成本；而且結構緊湊，設計巧妙，定位精準，提高了甩干機運行的穩定可靠性。

技術領域

本實用新型涉及一種硅片甩干機，尤其是涉及一種硅片甩干機停機轉軸自復位機構。

背景技術

在集成電路加工工藝中，對硅片進行清洗是其中比較重要的一個步驟流程，這是因為在硅片制造過程中會有一些殘留化學試劑和微塵附著在硅片表面，如果此種化學試劑塵粒缺陷(P/D，Particle Defect)不及時去除，會嚴重影響良率。

濕法清洗甩干工藝是硅片較為常用的清洗甩干工藝，該清洗工藝完成后需要對硅片進行氮氣干燥，硅片甩干機用于將潮濕的硅片通過高速旋轉及干燥使硅片表面干燥潔凈。現有的硅片甩干機按照轉軸的布置形式分為水平硅片甩干機(轉軸豎直布置)和立式硅片甩干機(轉軸橫向布置)，針對立式硅片甩干機停機后都需要將轉軸進行一定角度的復位，以使硅片承載盒內的硅片都豎直向上，避免硅片在取出時從硅片承載盒內掉落。目前現有的立式硅片甩干機的停機自復位機構需要定制專門的驅動電機，存在結構復雜、維修困難和成本高的缺點。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種硅片甩干機停機轉軸自復位機構一體化機構，以解決現有技術中硅片甩干機驅動電機及停機轉軸自復位機構存在結構復雜、維修困難和成本高的問題。

為實現上述目的，本實用新型采用如下技術方案：

一種硅片甩干機停機轉軸自復位機構，其包括驅動電機和復位氣缸，所述驅動電機的輸出軸通過聯軸器與甩干機的轉軸連接，所述聯軸器上安裝有自復位定位凸輪，所述自復位定位凸輪上設置有定位凹槽，所述復位氣缸的活塞桿端部安裝有自復位驅動部件，甩干機停機后，所述復位氣缸驅動自復位驅動部件緊貼自復位定位凸輪的輪面，由自復位驅動部件帶動自復位定位凸輪轉動，直至自復位驅動部件處于定位凹槽內使自復位定位凸輪停止轉動。

優選地，所述自復位定位凸輪還設置有凸起拐點，所述凸起拐點以自復位定位凸輪的中心為對稱點與定位凹槽對稱設置，所述定位凹槽與凸起拐點兩側的輪面為對稱設置的兩個平滑圓弧面，所述平滑圓弧面自定位凹槽到凸起拐點的半徑依次遞減。

優選地，所述聯軸器通過傳動軸承裝配于聯軸器座內，所述自復位定位凸輪位于所述聯軸器座內，所述聯軸器座上開設有用于復位氣缸的活塞桿穿入的通孔。

優選地，所述復位氣缸通過復位氣缸定位座安裝于所述聯軸器座的底部，通過復位氣缸定位座對復位氣缸的行程進行定位。

優選地，所述復位氣缸的活塞桿上設置有定位銷，配合定位銷于所述聯軸器座內開設有導向槽，通過定位銷和導向槽防止活塞桿升降時轉動。

優選地，所述自復位定位凸輪上開設有若干個平衡孔，平衡孔在提高聯軸器轉動時的平穩性的同時具有減重的作用。

優選地，所述驅動電機采用伺服無刷直驅電機，所述伺服無刷直驅電機相對于輸出軸的另一端安裝編碼器。

優選地，所述自復位驅動部件包括滾輪架和定位滾輪，所述滾輪架安裝于復位氣缸的活塞桿端部，所述定位滾輪能轉動地安裝于滾輪架上，復位時所述定位滾輪緊貼自復位定位凸輪的輪面。

與現有技術相比，本實用新型具有以下技術效果所述硅片甩干機停機轉軸自復位機構無需采用定制電機，節省了成本；而且結構緊湊，設計巧妙，定位精準，提高了甩干機運行的穩定可靠性。

附圖說明