[實用新型]一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201821409119.4
• 申請日: 2018-08-30
• 公開（公告）號: CN208803138U
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 王燕麗;王昕濤
• 申請（專利權）人: 東莞市典雅五金制品有限公司
• 主分類號: C23C14/46
• 分類號: C23C14/46;C23C14/50
• 代理公司: 東莞眾業知識產權代理事務所(普通合伙) 44371
• 代理人: 何恒韜

1.一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：包括機架、真空鍍膜室、主離子源、輔離子源、旋轉靶座和可加熱、旋轉及前后移動的基片架，所述真空鍍膜室裝設于機架上，所述主離子源、輔離子源、旋轉靶座和基片架均設于真空鍍膜室內，所述主離子源的發射口對準旋轉靶座，所述基片架夾設有基片，所述輔離子源的發射口對準裝設于基片架上的基片，所述旋轉靶座上安裝有四種不同的靶材，所述旋轉靶座的中心線與基片架的中心線相互疊合。

2.根據權利要求1所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：還包括驅動旋轉靶座轉動的第一驅動電機，所述第一驅動電機安裝于真空鍍膜室的上方，所述旋轉靶座與第一驅動電機的輸出軸固定連接。

3.根據權利要求1所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：還包括固定架、導桿、滑座、傳動軸、主動齒輪、傳動齒輪和驅動基片架旋轉的第二驅動電機，所述固定架與真空鍍膜室固定連接，所述導桿固定安裝于固定架上，所述滑座滑動安裝于導桿上，所述第二驅動電機固定安裝于滑座上，所述基片架與傳動軸的一端固定連接，所述傳動軸的另一端穿過固定架與傳動齒輪固定連接，所述主動齒輪與第二驅動電機的輸出軸固定連接，所述主動齒輪和傳動齒輪相互嚙合。

4.根據權利要求1所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述基片架內裝設有用于將基片加熱的加熱器。

5.根據權利要求1所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述主離子源和輔離子源的離子束能量為150-1500eV，所述主離子源和輔離子源的離子束電流為100mA。

6.根據權利要求1所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：還包括中和燈絲以及中和電源，所述中和燈絲裝設于主離子源和輔離子源上，所述中和燈絲與中和電源電連接。

7.根據權利要求1所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：還包括抽真空系統，所述抽真空系統包括機械泵和分子泵，所述機械泵用于對真空鍍膜室進行一級抽真空，所述機械泵的進氣口連通分子泵的出氣口；所述分子泵用于對真空鍍膜室進行二級抽真空，所述分子泵的進氣口連通真空鍍膜室的出氣口。

8.根據權利要求7所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述分子泵和真空鍍膜室之間設置有閘板閥。

9.根據權利要求1所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述真空鍍膜室設有觀察窗。

10.根據權利要求1所述的一種四靶雙離子束濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述旋轉靶座內還設有供冷卻水通過的冷卻管。